• 【書籍】造粒プロセスの最適化と設計・操作事例集(No.2227) 製品画像

    【書籍】造粒プロセスの最適化と設計・操作事例集(No.2227)

    PR【試読できます】★ 各種造粒のメカニズム、プロセス、操作パラメータ設定…

    ★ シミュレーション、AIを駆使した造粒プロセス最適化、連続生産システムの構築! --------------------- ■ 本書のポイント ● 造粒のスケールアップに必要な操作パラメータの適切な設定 ● 造粒装置・操作におけるトラブルと対策 ● 造粒物の粒度分布・粒子径・流動性・付着性の評価 ● 造粒のリアルタイムモニタリング、固形製剤連続生産システムの構築 ......

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社技術情報協会

  • 廃水処理システム「AT-BCシステム」 製品画像

    廃水処理システム「AT-BCシステム」

    PR低コストで廃水処理能力を大幅に向上可能!廃水処理設備を止めることなく増…

    【増設】 「処理施設の能力不足」や「設置場所が無く増設が困難」といった悩みを AT-BC装置を既設槽上に載せるだけで一発解決!低コストで廃水処理能力を大幅に向上させることができます。活性汚泥法と回転生物接触法の2つの処理法を進化させた廃水処理システムです。 【特長】 ■廃水を止める事無く増設が可能 ■工期は2週間程度 ■既設槽上にAT装置を載せるだけで能力が倍以上に ■設備投資費用は2...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社バチルテクノコーポレーション

  • 試料裏面マスクアライメント露光装置『BAシリーズ』 製品画像

    試料裏面マスクアライメント露光装置『BAシリーズ』

    プロセスの異なる試料表裏の一致した位置にパターン露光!ナノテックの露光…

    試料裏面マスクアライメント露光装置『BAシリーズ』は、 従来の露光装置では困難であった試料裏面からのアライメントを 可能にするローコストなマスクアライメント装置です。 本装置では試料の第1面に予め形成されたアライメントマー...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ナノテック

  • 研究室向け簡易マスク作製機『MM605』 製品画像

    研究室向け簡易マスク作製機『MM605』

    ローコストで手軽にマスク製作!多品種のデバイス開発に最適

    5』は1/5縮小露光の研究室向け簡易フォトマスク作製機です。 各種半導体・MEMS微小構造物製作のためには欠かせない フォトマスクは、特に大学・研究所において種類豊富に必要となります。 本装置は研究室レベルで簡単にフォトマスクを作製するための装置で、 お手持ちのグラフィックソフトやCADシステム等でプリントした図面を OHPフイルムにコピーしマスク原版として使用します。 特別に...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ナノテック

  • 実験・研究用マスクアライナー『ES410』 製品画像

    実験・研究用マスクアライナー『ES410』

    ローコストでフォトリソグラフイに必要な機能を完備!マスクアライナー

    ら フォトリソグラフイに必要十分な機能を持ったマスクアライナーです。 ESシリーズならではの幅広いカスタマイズ性を備え、各種ユニットや オプションを選択することで、さらに目的にフィットした装置に セットアップ可能です。 また、ほとんどのユニットが後から追加・変更できるので、 将来のグレードアップにも対応致します。 フルマニュアル機なので各種実験、研究、フォトリソグラフイの学習...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ナノテック

  • マイクロコンタクトプリンター『PA400S』 製品画像

    マイクロコンタクトプリンター『PA400S』

    高精度コンタクト圧制御!簡易的な光ナノインプリント実験も可能

    』は、次世代のデバイス製作手法 として注目を集めるmCP(micro contact printing)法や簡易的な 光ナノインプリント(UV-NIL)法に対応する マイクロコンタクトプリント装置です。 mCP法は急速に展開してきた有機エレクトロニクス分野や バイオ用マイクロ構造体などを、PDMSスタンプによるチオールインク転写 によって製作します。 UV-NIL法では超微細マイ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ナノテック

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