無菌室向け 二酸化塩素ガス除染装置『Weraser ZERO』

PR高精度計測器を搭載し、低濃度0.05ppm～高濃度1200ppm まで…

当社トラステック愛知が得意とするのは二酸化塩素の高精度の濃度計測と制御管理。 その技術を用いて開発したのが、二酸化塩素ガス除染装置『Weraser ZERO』です。 除染効果の高い二酸化塩素ガスを用いた除染装置で、 精度に優れたガスの濃度測定と、ガスの制御機能を有しています。 搭載された高精度計測器により、低濃度0.05～高濃度1200ppm（校正値1000ppm　検知管使用　当社...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トラステック愛知 本社

PET/PETG培地ボトル -Nalgeneの利点と比較-

PR多くのお客様にご利用いただいている高品質Nalgene培地ボトル。耐衝…

高品質で多くのお客様にご利用いただいているNalgene培地ボトルが、どのような点でメリットがあるか、という試験データをこの度アプリケーションノートとして公開いたしました。 ◆ -40℃で凍結させた後に実験机から落下させた場合の影響 ◆ 内圧をかけた際の液漏れテスト ◆ 凍結融解を行った際にどの程度、一度締めたキャップが緩むか（バックオフトルク） ◆ 培地に影響する二酸化炭素のボトル内部への入り...

メーカー・取り扱い企業： サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社／Thermo Fisher Scientific K.K.

【技術資料】ペルヒドロポリシラザンによるシリカ薄膜の形成

強い酸化作用を利用！照射条件を変えてVUV光を照射したときの膜質につい…

水蒸気中において450℃程度の温度で 焼成する方法が報告されています。 本研究は、TMOSやTEOSと異なりOを含まないPHPSを低温でシリカへ転化させるために、 酸素の活性種における強い酸化作用を利用することを目的としました。 そこで、薄膜形成時の照射雰囲気における酸素濃度の影響や、光子エネルギーに よる結合切断の必要性を調べるために、PHPS溶液を用いたスピンコーティング膜に...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クォークテクノロジー

【技術資料】真空紫外光照射によるゾル－ゲル薄膜の改質

紫外・可視光透過スペクトルを分光光度計により測定！ゾル－ゲル薄膜の改質…

量子（フォトン）プロセスは、照射に よる熱過程をともなわずに、光子の作用のみで原子の結合を切断できるため、 薄膜の改質にも応用できると考えられます。 当資料では、ゾル－ゲル法により調整した酸化ニッケル薄膜に、実用的な 光源として開発されてきたエキシマランプを用いてVUV光を照射したときの 状態変化について紹介しております。 【掲載内容】 ■はじめに ■実験 ■結果と考察 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クォークテクノロジー