スパウトパウチ × 超高輝度インク × 環境配慮型【ECO銀刷】

PRアルミ蒸着級の輝きを再現するグラビア印刷と、製袋加工からスパウト取付ま…

『スパウトパウチ』は、軟包装袋に注ぎ口を装着した、キャップによる再封性が備わったパウチ容器です。 新開発のパスターインクは、従来のグラビア印刷では実現できなかった超高輝度を再現可能にしたインクです。 これにより、窓抜きや細かい文字の再現が可能となり、繊細で高度な印刷表現が求められる用途にも対応します。 さらに、ヒンジキャップとの組み合わせにより、環境負荷を軽減しワンタッチ開閉が可能な高付...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社ショクホー

3次元NMRを用いた多糖の分析

PRピークが重複する複雑な有機化合物の構造解析が可能です。

NMRを用いた有機化合物の構造解析では、一般的に1次元NMR (1H-NMR・13C-NMR)のほかに1次元NMR のピーク同士の相関を確認できる2次元NMRを用いてピークを帰属することで化合物の構造を決定します。しかし、類似構造を多数含む糖類などの化合物では2次元NMRでもピークが重複するため解析が困難です。このような場合には3次元NMRが有効です。 本資料ではオリゴ糖をモデル化合物として、3...

メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団　MST

レジスト剥離液『アンラスト R510』

剥離された皮膜は比較的小さい！BOD、COD負荷も他のものと比較して低…

『アンラスト R510』は、PVA系フォトレジストの剥離剤です。 特にリードフレーム用として開発。剥離された皮膜は比較的小さく、 また、BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっています。 対象物はポジレジストで、電子工業で主に使用されています。 【特長】 ■PVA系フォトレジストの剥離剤 ■特にリードフレーム用として開発 ■剥離された皮膜は比較的小さい ■BOD、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

工業用洗浄剤『アンラスト RC-2』

揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要なフォトマスク洗浄剤をご紹介！

『アンラスト RC-2』は、ガラスやドライフィルムなどの対象物に 適用可能な、工業用洗浄剤です。 揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要。 フォトマスクにダメージを与えずに、汚れの拭き取り除去が可能です。 【特長】 ■フォトマスクにダメージを与えずに、汚れの拭き取り除去が可能 ■揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要 ■適用法令：消防法　危険物第四類第1石油類 ※詳...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

防・除錆剤『アンラスト CK』

常温下、短時間の処理で運用が可能！銅、銅合金の変色防止に適しています

『アンラスト CK』は、簡単な処理で変色防止効果を発揮し、低コストでの 運用が可能な防・除錆剤です。 アルカリ溶液に浸漬することで除去することが可能。 また、常温下、短時間の処理で運用が可能の為、作業に負担がかかりません。 【特長】 ■簡単な処理で変色防止効果を発揮 ■低コストでの運用が可能 ■アルカリ溶液に浸漬することで除去することが可能 ■常温下、短時間の処理で運用...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所