【シンポジウム開催】Annex 1改訂に伴う無菌製造の新たな基準

PR製薬企業が考慮するポイントや最新のソリューションについてご紹介します …

2023年8月25日に発効したEU GMP Annex 1の改訂版では、文書が大幅に拡充され、特にバリア技術に関する項目が強化されました。無菌製造プロセスにおいて製品の汚染を防ぐことが一層重視され、作業者からの汚染リスクを最小限に抑えるため、アイソレーターやRABSの導入が推奨されています。 この改訂は、世界中の製薬企業に影響を与え、無菌性を維持するための汚染管理戦略（CCS）策定が不可欠となって...

メーカー・取り扱い企業： シンテゴンテクノロジー株式会社

PFAS分析に貢献！超高感度分析用超純水装置【デモ機対応可能】

PRPFAS分析にも、超高感度TQ ICPMSにも対応しているため、高感度…

今使っている超純水装置ではPFAS分析に使えない！ またPFAS分析用の超純水を購入して使うのはコストがかかるし、面倒だ！ こんな悩みをお持ちの分析者の方はいませんか？ エルガ・ラボウォーターの『PURELAB Chorus 1 Analytical Research』ならPFAS分析にそのまま使えます。 同時にTQ ICPMSでの超微量元素分析にもそのまま使えます！ 【LCMSMSを用いた超...

メーカー・取り扱い企業： ヴェオリア・ジェネッツ株式会社 エルガ・ラボウォーター事業部

HeNeレーザーの置き換えに! 高出力633nm半導体レーザー

TOPMODE 633レーザーはHeNeレーザーの置き換え用に開発され…

TOPMODE 633レーザーはHeNeレーザーの置き換え用に開発された画期的な半導体レーザー光源です。独自技術のCHARMテクノロジーを採用し長時間にわたり安定した単一周波数モードを維持したオペレーションが可能です。長さ19cmのコンパクトな筐体も大きな魅力です。 出力は空間モデルで50mW(ファイバ出力で25mW)の高出力を実現しました。複数台のHeNeを利用するアプリケーションでは分岐...

メーカー・取り扱い企業： トプティカフォトニクス株式会社 営業部

CW, 266nm, 300mW 『TopWave 266』

・ＣＷ 深紫外レーザーシステム ・波長 266 nm、出力 300 …

産業用グレードのＣＷ TopWave 深紫外レーザーシステムは波長266nmにおいて300mWまたは150mWを出力する高い安定性と信頼性を併せ持ったレーザーシステムです。産業用途に最適な完全自動クリスタルシフターを内蔵し10,000時間以上の長寿命を実現しています。 シールドされたレーザーヘッドにはビーム品質(M² < 1.3) を提供可能にするビームシェーピング最適化機能が含まれています。 ...

メーカー・取り扱い企業： トプティカフォトニクス株式会社 営業部