3次元NMRを用いた多糖の分析

PRピークが重複する複雑な有機化合物の構造解析が可能です。

NMRを用いた有機化合物の構造解析では、一般的に1次元NMR (1H-NMR・13C-NMR)のほかに1次元NMR のピーク同士の相関を確認できる2次元NMRを用いてピークを帰属することで化合物の構造を決定します。しかし、類似構造を多数含む糖類などの化合物では2次元NMRでもピークが重複するため解析が困難です。このような場合には3次元NMRが有効です。 本資料ではオリゴ糖をモデル化合物として、3...

メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団　MST

排水処理薬剤　日本アルシー薬品カタログ

PRコスト削減、環境負荷低減、バルキング対策...etc.様々なニーズにお…

日本アルシーで取り扱っている薬剤を大きく分けて下記の4種類ご紹介しています。 排水処理薬剤変更を検討されている方は、ぜひこちらのカタログからご検討ください。 『アルシーフロックN100シリーズ』 無機成分によらない1次凝集剤であり、発生する凝集汚泥を削減します。 『高分子凝集剤アルシーフロックシリーズ』 高分子成分による2次凝集剤です。一般的なものよりも凝集性が高く、安定した処理を行うことがで...

メーカー・取り扱い企業： 日本アルシー株式会社 本社

アルミ・アルミ合金用エッチング液『マストーバ E1』

混酸タイプのエッチング液で、臭気が少なく作業性に優れています

『マストーバ E1』は、アルミ・アルミ合金用のエッチング液です。 混酸タイプのエッチング液で、臭気が少なく作業性に優れています。 電子業界に使用いただいています。 【特長】 ■混酸タイプ ■臭気が少ない ■作業性に優れている ■アルミ・アルミ合金用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：常温～...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト R510』

剥離された皮膜は比較的小さい！BOD、COD負荷も他のものと比較して低…

『アンラスト R510』は、PVA系フォトレジストの剥離剤です。 特にリードフレーム用として開発。剥離された皮膜は比較的小さく、 また、BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっています。 対象物はポジレジストで、電子工業で主に使用されています。 【特長】 ■PVA系フォトレジストの剥離剤 ■特にリードフレーム用として開発 ■剥離された皮膜は比較的小さい ■BOD、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

工業用洗浄剤『アンラスト RC-2』

揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要なフォトマスク洗浄剤をご紹介！

『アンラスト RC-2』は、ガラスやドライフィルムなどの対象物に 適用可能な、工業用洗浄剤です。 揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要。 フォトマスクにダメージを与えずに、汚れの拭き取り除去が可能です。 【特長】 ■フォトマスクにダメージを与えずに、汚れの拭き取り除去が可能 ■揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要 ■適用法令：消防法　危険物第四類第1石油類 ※詳...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

防・除錆剤『アンラスト CK』

常温下、短時間の処理で運用が可能！銅、銅合金の変色防止に適しています

『アンラスト CK』は、簡単な処理で変色防止効果を発揮し、低コストでの 運用が可能な防・除錆剤です。 アルカリ溶液に浸漬することで除去することが可能。 また、常温下、短時間の処理で運用が可能の為、作業に負担がかかりません。 【特長】 ■簡単な処理で変色防止効果を発揮 ■低コストでの運用が可能 ■アルカリ溶液に浸漬することで除去することが可能 ■常温下、短時間の処理で運用...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト No.1D』

水溶性レジスト剥離剤に！アルミニウム基盤にも対応可能なレジスト剥離液

株式会社三若純薬研究所の取り扱うレジスト剥離液『アンラスト No.1D』を ご紹介します。 珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品で、アルミニウム基盤にも対応可能。 20kg缶／ドラム／ローリーでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度：原液又は純水にて希釈 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。....

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト M10』

浸漬法、スプレー法にも対応！基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良…

『アンラスト M10』は、処理方法として浸漬法、スプレー法にも対応した レジスト剥離液です。 20kg缶／ドラム／1tコンテナ／ローリーでご用意しています。 剥離片が小さくなるため、基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良を 防止できます。 【処理条件】 ■濃度：原液処理又は純水にて希釈使用 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液『アンラスト OS15』

キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあるフォトレジスト剥離液…

『アンラスト OS15』は、カゼイン系、PVA系レジスト及びドライフィルム レジストの剥離に適したフォトレジスト剥離液です。 20kg缶／ドラム／1tコンテナでご用意。 キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあります。 【処理条件】 ■濃度：3倍希釈～原液 ■温度：50～70℃ ■時間：2～10分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所