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【食品開発展】機能性表示食品対応素材と液体充填カプセルのご紹介
PR新たな機能性表示が受理された2原料のご紹介のほか、充填機のデモを実施し…
ロンザは、東京ビッグサイトにて開催される「食品開発展2024」に出展いたします。 機能性表示食品対応素材として新たに脂肪燃焼機能で受理されたL-カルニチン『Carnipure(R)』と、 膝関節サポート機能に加え、新たに運動習慣者の歩行サポート機能でも受理された非変性II型コラーゲン『UC-II(R)』をご紹介。 併せて、独自のカプセル技術として油系、水系、ビーズタイプなど様々なタイプの素材を...
メーカー・取り扱い企業: ロンザ株式会社
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PR繰り返し使うことで環境負荷削減!金属製の高性能な高温集塵フィルター。
「パイロスクリーン」は、ステンレスまたは、アルミ製の高温集塵フィルターです。 ダストを含んだ気流を強制的に方向転換させるスクリーンを10枚複合することで、90~99%以上の除塵効率を実現しました。 圧力損失が極めて小さい点、材質・構造から高強度な点が大きな特長です。 【パイロスクリーンの特長・メリット】 ■乾性・湿性どちらにも使用可能 ステンレス製フィルターなので乾・湿どちらにも使...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社布引製作所 本社
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混酸タイプのエッチング液で、臭気が少なく作業性に優れています
『マストーバ E1』は、アルミ・アルミ合金用のエッチング液です。 混酸タイプのエッチング液で、臭気が少なく作業性に優れています。 電子業界に使用いただいています。 【特長】 ■混酸タイプ ■臭気が少ない ■作業性に優れている ■アルミ・アルミ合金用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:常温~...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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剥離された皮膜は比較的小さい!BOD、COD負荷も他のものと比較して低…
『アンラスト R510』は、PVA系フォトレジストの剥離剤です。 特にリードフレーム用として開発。剥離された皮膜は比較的小さく、 また、BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっています。 対象物はポジレジストで、電子工業で主に使用されています。 【特長】 ■PVA系フォトレジストの剥離剤 ■特にリードフレーム用として開発 ■剥離された皮膜は比較的小さい ■BOD、...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要なフォトマスク洗浄剤をご紹介!
『アンラスト RC-2』は、ガラスやドライフィルムなどの対象物に 適用可能な、工業用洗浄剤です。 揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要。 フォトマスクにダメージを与えずに、汚れの拭き取り除去が可能です。 【特長】 ■フォトマスクにダメージを与えずに、汚れの拭き取り除去が可能 ■揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要 ■適用法令:消防法 危険物第四類第1石油類 ※詳...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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常温下、短時間の処理で運用が可能!銅、銅合金の変色防止に適しています
『アンラスト CK』は、簡単な処理で変色防止効果を発揮し、低コストでの 運用が可能な防・除錆剤です。 アルカリ溶液に浸漬することで除去することが可能。 また、常温下、短時間の処理で運用が可能の為、作業に負担がかかりません。 【特長】 ■簡単な処理で変色防止効果を発揮 ■低コストでの運用が可能 ■アルカリ溶液に浸漬することで除去することが可能 ■常温下、短時間の処理で運用...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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水溶性レジスト剥離剤に!アルミニウム基盤にも対応可能なレジスト剥離液
株式会社三若純薬研究所の取り扱うレジスト剥離液『アンラスト No.1D』を ご紹介します。 珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品で、アルミニウム基盤にも対応可能。 20kg缶/ドラム/ローリーでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度:原液又は純水にて希釈 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。....
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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浸漬法、スプレー法にも対応!基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良…
『アンラスト M10』は、処理方法として浸漬法、スプレー法にも対応した レジスト剥離液です。 20kg缶/ドラム/1tコンテナ/ローリーでご用意しています。 剥離片が小さくなるため、基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良を 防止できます。 【処理条件】 ■濃度:原液処理又は純水にて希釈使用 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあるフォトレジスト剥離液…
『アンラスト OS15』は、カゼイン系、PVA系レジスト及びドライフィルム レジストの剥離に適したフォトレジスト剥離液です。 20kg缶/ドラム/1tコンテナでご用意。 キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあります。 【処理条件】 ■濃度:3倍希釈~原液 ■温度:50~70℃ ■時間:2~10分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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