ウェビナーのご案内│LC と GC の基礎 ～ 食品分析編

PRクロマトグラフィーの基礎を学びたい方、必見のウェビナーです！

- GC は理解しているけれど LC は苦手 - LC を使ってきたけれど GC は初心者 - LC と GC の原理や違いを知りたい方 「いまさら聞けない」が聞けるウェビナーです。2025 年の第一弾は食品分析にフォーカスします。 開催日│ PART 1 2025年1月23日（木）15:00-16:00 PART 2 2025年1月28日（火）15:00-16:00....

メーカー・取り扱い企業： アジレント・テクノロジー株式会社

ソーラーシミュレーター『G2009B1』

PRLED光により必要な範囲の波長の光を、キセノンランプより長寿命でかつ安…

『G2009B1』は、小面積セルの太陽電池特性評価に好適な ソーラーシミュレーターです。 AM1.5Gの太陽光スペクトルを高精度に再現し、自然光に限りなく近い 精度を実現しています。 太陽電池の効率測定や光起電力デバイスの研究に活用できます。 【特長】 ■直径15mmのエリアでクラスAAAのスペクトル性能、直径25mmのエリアで 　クラスABAのスペクトル性能(IEC規格...

メーカー・取り扱い企業： 重松貿易株式会社 大阪本社

レジスト剥離液『アンラスト R510』

剥離された皮膜は比較的小さい！BOD、COD負荷も他のものと比較して低…

『アンラスト R510』は、PVA系フォトレジストの剥離剤です。 特にリードフレーム用として開発。剥離された皮膜は比較的小さく、 また、BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっています。 対象物はポジレジストで、電子工業で主に使用されています。 【特長】 ■PVA系フォトレジストの剥離剤 ■特にリードフレーム用として開発 ■剥離された皮膜は比較的小さい ■BOD、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

工業用洗浄剤『アンラスト RC-2』

揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要なフォトマスク洗浄剤をご紹介！

『アンラスト RC-2』は、ガラスやドライフィルムなどの対象物に 適用可能な、工業用洗浄剤です。 揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要。 フォトマスクにダメージを与えずに、汚れの拭き取り除去が可能です。 【特長】 ■フォトマスクにダメージを与えずに、汚れの拭き取り除去が可能 ■揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要 ■適用法令：消防法　危険物第四類第1石油類 ※詳...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

防・除錆剤『アンラスト CK』

常温下、短時間の処理で運用が可能！銅、銅合金の変色防止に適しています

『アンラスト CK』は、簡単な処理で変色防止効果を発揮し、低コストでの 運用が可能な防・除錆剤です。 アルカリ溶液に浸漬することで除去することが可能。 また、常温下、短時間の処理で運用が可能の為、作業に負担がかかりません。 【特長】 ■簡単な処理で変色防止効果を発揮 ■低コストでの運用が可能 ■アルカリ溶液に浸漬することで除去することが可能 ■常温下、短時間の処理で運用...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所