化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止！平均径30μm程度の球状粒子

『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンギ

ウェビナーのご案内│LC と GC の基礎 ～ 食品分析編

PRクロマトグラフィーの基礎を学びたい方、必見のウェビナーです！

- GC は理解しているけれど LC は苦手 - LC を使ってきたけれど GC は初心者 - LC と GC の原理や違いを知りたい方 「いまさら聞けない」が聞けるウェビナーです。2025 年の第一弾は食品分析にフォーカスします。 開催日│ PART 1 2025年1月23日（木）15:00-16:00 PART 2 2025年1月28日（火）15:00-16:00....

メーカー・取り扱い企業： アジレント・テクノロジー株式会社

レーザーCVD装置

サンプルMAXサイズ10mm口！耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用い…

膜する 装置です。 600℃までヒーター加熱。チャンバーサイズは、φ300 × 300Hです。 耐熱、断熱セラミック研究用途でご利用いただけます。 【仕様】 ■サンプルMAXサイズ10mm口 ■600℃までヒーター加熱 ■RPにて排気、MAX 5Pa ■O2 x 1 Ar x 4系統　MFC仕様 ■φ300 x 300H　チャンバーサイズ ※詳しくは外部リンクページ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

小型スパッタ装置

対応基板は最大φ1インチまで処理が可能！デュアルガスノズルを備えた装置

【仕様】 ■構成：成膜室および排気系、ガス導入系 ■到達圧力：6.7 x 10^-5Pa以下（排気後3時間） ■基板サイズ：1インチSiウェハ1枚 ■膜圧分布：±5%以下（1インチ基板のφ20mm内） ■ターゲット寸法：φ25.4mm x 3t（非磁性金属材料など） ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

2次元抵抗加熱蒸着装置

蒸着源はボートタイプ！基板は支柱上のプレートに取付けられており高さは任…

【仕様】 ■SUSチャンバー ■到達圧力　7×10^-2Pa ■基板ホルダー　φ1インチ ■抵抗加熱蒸着源　Wボートタイプ　2基 ■DP1500L/s ■RP220L/m ■ピラニー真空計　電離真空計　標準装備 ■シャッター機構 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック