• 化粧品原料用ヒドロキシアパタイト 製品画像

    化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

    PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止!平均径30μm程度の球状粒子

    『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サンギ

  • 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 静的・動的高温濡れ性試験機 製品画像

    静的・動的高温濡れ性試験機

    さまざまな金属溶融-凝固プロセスを可視化!静的・動的高温濡れ性試験機の…

    ■基板温度:RT~500 ℃ ■温度測定:K-T.C ■温度制御:PID制御 ■滴下距離:30~400 mm ■傾斜角度:0~80 ° 【冷却部(回転ロール)】 ■ロール形状:φ100*L20 mm ■ノズルギャップ:0.5 mm~ ■表面周速:~45 m/s ■回転数:1000~8500 rpm ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社真壁技研

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