• 食品・厨房向け高温排水管 フジGRPパイプ【NETIS登録製品】 製品画像

    食品・厨房向け高温排水管 フジGRPパイプ【NETIS登録製品】

    PR【NETIS登録製品】 高温・薬液の排水管としてご使用できます!

    「フジGRPパイプ」は、ポリプロピレン樹脂の内層とポリプロピレン樹脂をガラス繊維で強化したFRTPの外層を一体成形した二層管。 極めて強度が高いことに加え、熱膨張係数が24×10-6/℃と他の樹脂管に比べて圧倒的に小さくなっています。 また耐熱性が高く、伸縮継手による熱伸縮対応が不要となるため、施工性が向上します。 【フジGRPパイプの特徴】 ■高温に強い (最高100℃) ■耐薬品性に優れてい...

    • イプロスGRP特集,240531 02.jpg
    • イプロスGRP特集,240531 03.jpg

    メーカー・取り扱い企業: 富士化工株式会社

  • スマホ対応クリーングローブ/タッチクリーン『BX-803』 製品画像

    スマホ対応クリーングローブ/タッチクリーン『BX-803』

    PR スマホが使えるクリーングローブです。クリーンルーム内でも手袋の着…

    掌面にスマホ対応素材を採用していますので、5指のいずれでもタッチパネル操作が可能です。クリーンルーム内でも素手感覚でタッチパネル操作が可能です。...サイズ:S、M、L、LL 素材 :合成皮革(ポリエステル/ポリウレタン) スタイル:左右別、マチ無し、無縫製仕様 包装:片手毎に100枚入り(クリーンパック)...

    メーカー・取り扱い企業: ウインセス株式会社

  • Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100 製品画像

    Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    『RTP-100』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルのプロセスも可能です。 最大到達温度1200℃...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 VSS-300 製品画像

    ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 VSS-300

    300mm角対応モデル。ローダー・アンローダーと連携可能で量産にも。 …

    mmウエハ時) ■最大昇温速度(対象物の熱容量に因る):150K/min. ■最大降温速度(対象物の熱容量に因る):90K/min.(T=450℃>200℃)、60K/min.(T=200℃>100℃) ■チャンバー真空耐久度:0.1Pa(10-3hPa) ■窒素ガス:0.35~0.4MPa(3.5~4bar) ■コントローラ:7インチタッチパネルコントローラ(SIMATIC製 TP-...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-160-S 製品画像

    ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-160-S

    フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタン…

    合わせ、 最高0.01%のボイドフリーを可能にします。 また、業界最小クラスのコンパクト設計ながら、さまざま試作開発に 対応する機能と性能を一台に凝縮しました。 【特長】 ■毎分100℃のスピード昇温、さらに水冷式なのでタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度400℃対応(オプションで500℃) ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼ...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 RSO-200 製品画像

    ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 RSO-200

    金属の焼結にも使える最大昇温速度600K/min.の超高速昇温対応モデ…

    mウエハ時) ■最大昇温速度(対象物の熱容量に因る):600K/min. ■最大降温速度(対象物の熱容量に因る):200K/min.(T=650℃>400℃)、60K/min.(T=200℃>100℃) ■チャンバー真空耐久度:0.1Pa(10-3hPa) ■プロセスガス供給ライン:マスフローコントローラx1(最大流量:5nlm) ■コントローラ:7インチタッチパネルコントローラ(SI...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-110-S 製品画像

    ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-110-S

    フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタン…

    mx40mm ■最大到達温度:400℃ ■加熱方式:クロス配列IRヒーター(下部加熱) ■温度制御方式:P.I.D.制御方式 ■プレート上面内温度差:設定温度に対して±1%以内(対象物:Φ100mmウエハ時) ■最大昇温速度(対象物の熱容量に因る):120K/min. ■最大降温速度(対象物の熱容量に因る):180K/min.(T=450℃>200℃) ■チャンバー真空耐久度:0....

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応真空はんだリフロー装置 RSS-3×210-S 製品画像

    ギ酸・水素還元対応真空はんだリフロー装置 RSS-3×210-S

    対象物が大きい場合や同時作成にも適した、シリーズ最大の加熱プレートサイ…

    【仕様(抜粋)】 ■装置サイズ(WxDxH):820x630x315mm ■装置重量:約100kg ■有効対象物サイズ(WxDxH):620mmx200mmx50mm ■最大到達温度:300℃ ■加熱方式:クロス配列IRヒーター(下部加熱) ■温度制御方式:P.I.D.制御方式 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300 製品画像

    Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    『VPO-1000-300』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ12インチ・Φ6インチ・4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルの プロセスも可...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

1〜7 件 / 全 7 件
表示件数
15件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • 【7月8日】Certara-Ipros-Science-Ads-300x300-1 (AI).jpg
  • 4校_0617_orionkikai_300_300_2045050.jpg

PR