除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

高周波溶着機　電動シリンダー仕様「PLASEST-05E」

PR電動シリンダー搭載で「品質向上・数値管理」　簡単操作で高い生産性を実現…

「PLASEST-05E型」の稼働に必要なものは200V電源のみで、コンプレッサは不要です。 また、溶着後の厚み・加圧力と高周波条件を数値による設定管理を行う事で出来きます。 加工品の品質向上・安定した製品を生産できる高周波溶着機です。 タッチパネルに条件を保存することにより再現性の高い加工が可能。 電動シリンダーを採用により、下降速度、プレス間隔、加圧力、仕上げ厚みを制御可能。 特...

メーカー・取り扱い企業： 山本ビニター株式会社

ハイクロソフト水生成装置『ウェル クリン・テ・ネオ』

非接触型センサー搭載！手を触れずに操作可能なハイクロソフト水生成装置

適合した硬度80以下の水 ■使用可能水圧：0.1～0.7MPa(0.2MPa以上は減圧弁使用のこと) ■使用可能温度：0～35℃(凍結不可) ■生成水量：約2.6L/min. ■電源：AC100V 50/60Hz 0.8A ■寸法：W260mm×H361mm×D120mm(突起部含まず) ■重量：約4kg(乾燥重量) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社OSGコーポレーション

ハイクロソフト水生成装置『ウェル クリン・テ・プラス』

高度な衛生管理が求められる現場へ！環境に配慮したハイクロソフト水生成装…

【仕様(抜粋)】 ■形式：NDX-65KM-H(P2) ■サイズ(本体)：W240×H350×D201 ■重量：約5.5Kg ■定格：AC100V 2.7A 50/60Hz ■使用流体温度：0〜35℃(凍結無き事) ■生成量：1.5L添加液で約350L ■使用可能水量：2.0L/分(0.15MPa時) ■運転時間：7・10・15・6...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社OSGコーポレーション