• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 高周波溶着機 電動シリンダー仕様「PLASEST-05E」 製品画像

    高周波溶着機 電動シリンダー仕様「PLASEST-05E」

    PR電動シリンダー搭載で「品質向上・数値管理」 簡単操作で高い生産性を実現…

    「PLASEST-05E型」の稼働に必要なものは200V電源のみで、コンプレッサは不要です。 また、溶着後の厚み・加圧力と高周波条件を数値による設定管理を行う事で出来きます。 加工品の品質向上・安定した製品を生産できる高周波溶着機です。 タッチパネルに条件を保存することにより再現性の高い加工が可能。 電動シリンダーを採用により、下降速度、プレス間隔、加圧力、仕上げ厚みを制御可能。 特...

    メーカー・取り扱い企業: 山本ビニター株式会社

  • 超低温凍結装置 製品画像

    超低温凍結装置

    常温から-120℃までの世界を簡単体験!AC100Vで簡単に凍結するこ…

    散複合セラミック「CZ-80」を使用した 特殊熱交換器によって、常温から超低温(-120℃)まで引き下げます。 液体窒素を使うことなく、30分で-120℃まで下げることが可能。 AC100Vで簡単に凍結することができ、凍結実験や製品のマイナス 環境負荷試験に適しています。 【特長】 ■液体窒素を使うことなく、30分で-120℃まで下げることが可能 ■AC100Vで簡単に凍...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社西研デバイズ

  • 回転式EIB発生装置『EIB-Rシリーズ』 製品画像

    回転式EIB発生装置『EIB-Rシリーズ』

    省エネルギーで平均気泡径1~10μmの気泡を大量に供給します!

    『EIB-Rシリーズ』は、小型、中型水槽に適した回転式のEIB発生装置です。 EIB発生装置は、気体を効率良く液中に溶かすことの出来る 省エネルギー装置で、汚れや水質に影響されない耐久性と酸素、窒素、 二酸化炭素、水素、オゾンなど気体を選ばない汎用性を兼ね備えています。 【装置の特長】 ■EIB生成に必要なものは僅かな液流速(1m/s)と気体供給圧(0.1Mpa 以下)だけ ■...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社西研デバイズ

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