• ラボ用ポータブル粉砕機『LAB MILL II』 ※水洗い可能! 製品画像

    ラボ用ポータブル粉砕機『LAB MILL II』 ※水洗い可能!

    PR錠剤、穀物、薬草類を簡単操作でハイパワー粉砕!容器洗浄可能でコンタミも…

    『LAB MILL II』は回転数20,000rpm、出力235Wのハイパワーで錠剤、穀物、薬草類を極めて短時間で細かい粒の揃った試料を作成いたします。 別売オプションのディスポベースをご利用いただくことで、錠剤粉砕等コンタミを避けなければならない試料に対し、 一試料ごとに粉砕容器を変えられるディスポ容器を使用することができ、残留物の心配が減ります。 また、雑菌フリーが要求される試料用に...

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    メーカー・取り扱い企業: 大阪ケミカル株式会社

  • 少量生産に好適!『卓上型上面用ラベラー』※丸ボトル用ラベラーも有 製品画像

    少量生産に好適!『卓上型上面用ラベラー』※丸ボトル用ラベラーも有

    PR貼り付け速度は最大16m/分、電気消費量は400VA!当社の2種類のラ…

    当社で取り扱っている、卓上型上面用ラベラー『MODEL ELF-20』について ご紹介いたします。 操作や型替えがとても簡単で、少量生産に好適。 ホットスタンププリンターと透明ラベルセンサーの2つの オプションがございます。 また、丸ボトル用の卓上型ラベラー「MODEL ELF-50」もご用意しております。 【MODEL ELF-20の仕様(抜粋)】 ■電源:AC100V、50/60Hz、単...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アキュレックス 本社、大阪営業所

  • Ybフェムト秒レーザ(オシレータのみ)FLINT 製品画像

    Ybフェムト秒レーザ(オシレータのみ)FLINT

    PHAROS シリーズのオシレータのみを自在に使用できるフェムト秒光源…

    第二高調波(515nm)オプションを装着(HG-FLINT)でき自動切換え可能。時間分解分光、非線形光学、微細構造加工など幅広く使用可能。...特長 ●繰り返し周波数:11MHz, 20MHz, 40MHz, 76MHz ●最大平均出力:20W@76MHz, 1026±2nm ●最短パルス幅:<50fs ●最大パルスエネルギー:>0.6μJ ●高出力安定性 :<0.5%rms 用...

    メーカー・取り扱い企業: フォトテクニカ株式会社

  • ワンボックス高出力フェムト秒レーザ CARBIDE 製品画像

    ワンボックス高出力フェムト秒レーザ CARBIDE

    発振器からアンプまで全てを単一の筐体に統合することを実現したユニボディ…

    高効率キャビティ設計でサイズが劇的に小型化。また組み立てが容易で量産に最適化されており、産業用途に最適なほか、理科学用途にも最適。 ビーム安定性のあるウルトラファーストパルスを必要とする産業用途において、内蔵のパルスピッカーにより出力やエネルギーをコントロールし、環境に左右されずに安定したビーム品質と出力安定性を得ることが可能。 フレキシブルで柔軟性の高いBiBurst機能を追加するこ...

    メーカー・取り扱い企業: フォトテクニカ株式会社

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