除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

「第25回 国際粉体工業展 POWTEX2024」出展のご案内

PR食品や電池・電子材料など各テーマに沿って、粉粒体装置を使用したアプリケ…

株式会社パウレックは、東京ビッグサイトにて開催される「第25回 国際粉体工業展 POWTEX2024」に出展いたします。 当社のブースでは“POWREXFESTA"と題しまして、パウレックオールスターによる ブース内セミナーを実施。業界別・機種別の各種テーマに沿って、当社装置を使用した アプリケーション事例をご紹介させていただきます。 ドリンクやお菓子もご用意し、学園祭さながらの...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パウレック

希釈装置

設定濃度の希釈液と水を自動混合しながら排出する希釈装置

がら排出する希釈装置です。 主に、ホルマリン、エタノール、フェノール等に適しています。 水量や濃度の希釈設定が可能です。 2液混合希釈タイプ「HW200」の他、混合液数の異なる「HW300」、 「HW400」をご用意しております。 【特長】 ■水に対して希釈可能 ■設定濃度の希釈液と水を自動混合 ■ホルマリン、エタノール、フェノール等に最適 ■混合液数の異なる3種類...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社森エンジニアリング

ホットプレート『M200型』

表面温度を任意に設定できる伸展用ホットプレート

プション125度） ■表示：デジタル7セグメントLED ■プレート面：275×225mm（テフロン加工オプション） ■消費電力：150W（70度仕様）500W（125度仕様） ■外寸法：W300×D275×H100mm ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社森エンジニアリング

水温コントロールユニット『MH200』

水温を任意に設定することができるパラフイン用温水器

■消費電力 　・待機時：1VA 　・制御時：205W/h ■安全装置 　・過電流保護ヒューズ：5A 　・過熱防止ヒュウズ：110度 ■曹内寸法：270W　120D　60H ■外寸法：300W　200D　140H ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社森エンジニアリング