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  • 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

  • 「第25回 国際粉体工業展 POWTEX2024」出展のご案内 製品画像

    「第25回 国際粉体工業展 POWTEX2024」出展のご案内

    PR食品や電池・電子材料など各テーマに沿って、粉粒体装置を使用したアプリケ…

    株式会社パウレックは、東京ビッグサイトにて開催される「第25回 国際粉体工業展 POWTEX2024」に出展いたします。 当社のブースでは“POWREXFESTA"と題しまして、パウレックオールスターによる ブース内セミナーを実施。業界別・機種別の各種テーマに沿って、当社装置を使用した アプリケーション事例をご紹介させていただきます。 ドリンクやお菓子もご用意し、学園祭さながらの...

    メーカー・取り扱い企業： 株式会社パウレック

  • 超純水装置 ピューリックω シリーズ 製品画像

    超純水装置 ピューリックω シリーズ

    一般的なラボ・分析用超純水製造装置では困難だった最高水準の超純水をつく…

    比抵抗値：18.2MΩ/cm TOC値：≦1ppb（ピューリックω）、1~5ppb（ピューリックω60） 採水流量：2.0L/min（20L/日～60L/日） 外形寸法（ディスペンサー）：Ｗ300×Ｄ300×Ｈ600ｍｍ 外形寸法（ピューリックω本体）：Ｗ300×Ｆ600×Ｈ1,100ｍｍ 外形寸法（ピューリックω60本体）：W450×D700×H1,200mm 製品重量（ピューリッ...

    メーカー・取り扱い企業： オルガノ株式会社

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