除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

「第25回 国際粉体工業展 POWTEX2024」出展のご案内

PR食品や電池・電子材料など各テーマに沿って、粉粒体装置を使用したアプリケ…

株式会社パウレックは、東京ビッグサイトにて開催される「第25回 国際粉体工業展 POWTEX2024」に出展いたします。 当社のブースでは“POWREXFESTA"と題しまして、パウレックオールスターによる ブース内セミナーを実施。業界別・機種別の各種テーマに沿って、当社装置を使用した アプリケーション事例をご紹介させていただきます。 ドリンクやお菓子もご用意し、学園祭さながらの...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パウレック

ポリマークラッド光ファイバー『HCS…UV Fiber』

石英コア/ポリマークラッド光ファイバー（300～1100nm対応）

【ファイバー特性】 ■純石英コア、ポリマークラッド（-50℃～120℃） ■ステップインデックス型 ■高NA：0.37～0.48 ■対応波長域：300～1100nm ■各種バッファー：ナイロン（-40℃～85℃）、ETFE（-200℃～150℃） ■プルーフテスト（曲げ試験）：70kpsi ■曲げ半径：瞬間的曲げ半径＝100×ファイバー半...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ティー・イー・エム

石英クラッド光ファイバー『AS…UV/VIS Fiber』

高温・真空等、特殊な外部環境に対応可能な特殊コーティングの光ファイバー

クラッド光ファイバーです。 耐放射性や、耐レーザー光ダメージを有しています。 また、ETO、蒸気、電子線、ガンマ線による滅菌が可能です。 【特長】 ■PCSファイバーよりも180～300nmの波長域で高透過率 ■高効率バンドル向けの高コア/クラッド比ファイバーも可能 ■生体適合性材料 ■耐放射性 ■耐レーザー光ダメージ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽に...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ティー・イー・エム

高出力レーザー向けマイクロレンズ『FAC・SACレンズ』

優れたビーム集光品質を有している高出力半導体レーザー向けのマイクロレン…

【ラインアップ】 ■FACレンズ ・FAC06-150 ・FAC07-300 ・FAC07-360 ・FAC07-500 ・FAC08-600 ・FAC07-700 ・FAC08-900 ・FAC06-1100 ・FAC06-1200 ・FAC08-920...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ティー・イー・エム

CeramOptec社製『高品質石英光ファイバー』

様々なアプリケーションで幅広く使用されている優れた品質のファイバーをご…

0.20, 0.22(標準), 0.28, 0.37, 0.44, 0.53 ■対応波長域別で選択可能：OPTRAN UV→190～1200nm 　　　　　　　　　　　　　OPTRAN WF→300～2400nm 　　　　　　　　　　　　　OPTRAN UVWFS→200nm～2000nm ■選択可能なクラッド材質：石英、ハードポリマー、プラスチック（コアは全て石英です。） ■コア・ク...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ティー・イー・エム

天文学用グレーティング

天体望遠鏡に特化した高スループットの体積ホログラフィック（VPH）グレ…

・広帯域に渡る入射角チューニング ・波長（350〜2500nm）およびライン密度（150〜6000ライン/ mm）で大型サイズ >300nm のカスタム作成が可能 ・複数の特許取得済み設計技術 ・低偏光依存性、均一な透過率 ・強固な設計により、拭き取りとハンドリングが容易...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ティー・イー・エム