除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

「第25回 国際粉体工業展 POWTEX2024」出展のご案内

PR食品や電池・電子材料など各テーマに沿って、粉粒体装置を使用したアプリケ…

株式会社パウレックは、東京ビッグサイトにて開催される「第25回 国際粉体工業展 POWTEX2024」に出展いたします。 当社のブースでは“POWREXFESTA"と題しまして、パウレックオールスターによる ブース内セミナーを実施。業界別・機種別の各種テーマに沿って、当社装置を使用した アプリケーション事例をご紹介させていただきます。 ドリンクやお菓子もご用意し、学園祭さながらの...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パウレック

化学機器・装置「ラボスプレードライヤー スプレーボーイ」

高水準の条件設定、バグフィルター、タッチパネルを標準搭載！

○乾燥室内径(mm)：φ387 ○概略外寸法W(mm)：1384 ○概略外寸法D(mm)：1082 ○概略外寸法H(mm)：1726 ○噴霧方式：二流体ノズル方式 ○熱風温度(℃)：300（最大） ○水分蒸発量(kg/h)：3 ○ヒーター容量(kW)：5 ○電源：三相200V/220V　50/60Hz ○製品捕集方式：サイクロン ○微粉捕集方式：バグフィルター ○操作部...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社プリス

化学機器・装置「中型スプレードライヤー Pシリーズ」

コンパクト、大処理量！設置面積に限界はあるが、処理量もあきらめたくない…

【仕様】 ○型式：P220/P240/P260/P290/P300 ○乾燥室内径(mm)：φ2200/φ2400/φ2600/φ2900/φ3000 ○概略外寸法W(mm)：3700/3900/4200/4500/4600 ○概略外寸法D(mm)：3900...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社プリス