除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止！平均径30μm程度の球状粒子

『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンギ

ノズル『75SUSタイプ』

供給エア源発生装置の電気消費三も大幅に低減できるハイブローノズルSUS…

【仕様】 ■型式:75SUS ■接続口の口径:φ75 ■スリット巾調整範囲:0.5mm～2.0mm ■製作可能スリット長さ(10mm単位で製作可) 　・スリット巾0.5～1.0mm時:300～1900mm 　・スリット巾1.1～2.0mm時:300～1500mm ■効率的使用風速 　・スリット巾1.0mm時:0～150m/s 　・スリット巾2.0mm時:25～80m/s ■...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社関西電熱

ノズル『65SUSタイプ』

低圧損！低コスト！軽量！省エネを実現したハイブローノズルSUS

【仕様】 ■型式:65SUS ■接続口の口径:φ65 ■スリット幅調整範囲:0.5mm～2.0mm ■製作可能スリット長さ(10mm単位で製作可) 　・スリット巾0.5mm～1.0mm:300mm～1900ｍｍ 　・スリット巾1.1ｍｍ～2.0mm:300mm～1000ｍｍ ■効率的使用風速 　・スリット巾1.0mm時:25～120m/s 　・スリット巾2.0mm時:25～10...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社関西電熱