• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 「第25回 国際粉体工業展 POWTEX2024」出展のご案内 製品画像

    「第25回 国際粉体工業展 POWTEX2024」出展のご案内

    PR食品や電池・電子材料など各テーマに沿って、粉粒体装置を使用したアプリケ…

    株式会社パウレックは、東京ビッグサイトにて開催される「第25回 国際粉体工業展 POWTEX2024」に出展いたします。 当社のブースでは“POWREXFESTA"と題しまして、パウレックオールスターによる ブース内セミナーを実施。業界別・機種別の各種テーマに沿って、当社装置を使用した アプリケーション事例をご紹介させていただきます。 ドリンクやお菓子もご用意し、学園祭さながらの...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社パウレック

  • トンネル工事用スラリーポンプ『SPDシリーズ』 製品画像

    トンネル工事用スラリーポンプ『SPDシリーズ』

    頑丈さと耐久性をクリア!シールド工法を支える古河のシールド工事用ポンプ

    1.3 ■SPD2-200C:200×200、5~14、0.3 ■SPD5-200C:200×200、5~14、0.7 ■SPD6-200C:250×200、5~15、1.0 ■SPD6-300C:350×300、10~25、1.0/1.3 ■SPD6-350C:350×350、15~33、1.0 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 古河産機システムズ株式会社:古河機械金属グループ

  • ハイドロスクリューミキサー『HSM形』 製品画像

    ハイドロスクリューミキサー『HSM形』

    高濃度消化槽内の汚泥を効率良く攪拌!耐久性にも優れています。

    【仕様】 ■ケーシング径:300~800mm ■攪拌流量:5~100m3/min ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 古河産機システムズ株式会社:古河機械金属グループ

  • 低濃度スラリーポンプ『SPP形』 製品画像

    低濃度スラリーポンプ『SPP形』

    低濃度一般スラリー用ポンプ!産業排水処理に使用できます。

    【仕様】 ■吐出口径:80~300mm ■吐出し量:0.4~20.0m3/min ■全揚程:5~45m ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 古河産機システムズ株式会社:古河機械金属グループ

1〜3 件 / 全 3 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • banner_202410_jp.jpg
  • 1118_brother_300_300_2003310.jpg

PR