• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 化粧品原料用ヒドロキシアパタイト 製品画像

    化粧品原料用ヒドロキシアパタイト

    PR余分な皮脂を吸着し、化粧崩れを防止!平均径30μm程度の球状粒子

    『化粧品原料用ヒドロキシアパタイト』は、化粧品原料としての特性を有し、 自社技術にて製造された球状のヒドロキシアパタイト粉体です。 一般的なヒドロキシアパタイト粉体に比較してすべり性が良く、感触性に 優れており、生体親和性がよく、安全性も高いので、肌に優しい化粧品の 訴求が可能。 肌表面の凹凸を隠すことで、小じわや毛穴等が目立たなく肌を美しく見せます。 【特長】 ■なめら...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サンギ

  • ガスクロマトグラフ向け水素ガス発生器『COSMOS MD.H2』 製品画像

    ガスクロマトグラフ向け水素ガス発生器『COSMOS MD.H2』

    ガスクロマトグラフのFID、FPD、NPD、TCDなどの検出器ガス用に…

    を自動的に検出する機能を 有しており、各装置パラメータは最大限の安全性を確保しながら、安定的に 高純度水素を供給できるように設計しています。 【特長】 ■流量:110、170、260、300、400、500、600cc/min ■純度>99.9996% ■排気圧力7bar(101.5psi)以上 ■100%専用チタニウム多層プロトン交換膜(PEM)セル:  超寿命/高純度ガス...

    メーカー・取り扱い企業: アキュメンテック株式会社 本社

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