除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

手動式粉体試料採取器『SAMPER(サンパー)』

PR縦式で粉末を確実に採取！高強度の優れた材質を使用した粉体試料採取器

『SAMPER(サンパー)』は、粉体サンプルの上部はもちろん、中間部や 底の粉体サンプリングも正確に採取する手動式粉体試料採取器です。 サイドフィンは流動性の悪い粉体も巻き込んでキャッチし採取。 外筒本体と内筒による回転式2重構造により粉体を逃しません。 材質はステンレス製の鋼材(SUS304)で、各種化学薬品にも強く、 物理的強度も強い構造です。 【特長】 ■縦式で粉末...

メーカー・取り扱い企業： 福伸工業株式会社

蒸気供給モジュール『VDM300』

超高清浄度のDI蒸気供給において最高流量精度を実現

蒸気供給モジュール（VDM：Vapor Delivery Module）は、低温でも超高清浄な気化ガスを生成する電力効率の優れた設計が特長です。実証済みの蒸気供給技術を採用し、高度なデジタル制御と総合的な診断機能を備えています。 フラッシュ気化システムと比較して、優れた精度、大流量率、幅広い制御範囲、低電力消費を実現します。実証済みのサーマル式マスフロー測定技術を基にしており、非過熱状態でも...

メーカー・取り扱い企業： ITWジャパン株式会社

メタルシールマスフローコントローラ/メータ『GF125シリーズ』

すべてを可能にするMFC

ューサ、関連するハードウェア設置の必要性を減らすことにより、ガスパネルのサイズとコストを縮小します。 【特長】 ■長期的なゼロ点安定性：0.5％フルスケール/年以下 ■セトリングタイム：300 ms - 700 ms以下 ■フルスケール流量レート 最大300 slpm ■メタルシール流路：4µ インチ Raの表面仕上げ ■SEMI F20準拠接ガス･接液部材質 ■耐腐食ハステロ...

メーカー・取り扱い企業： ITWジャパン株式会社

メタルシールマスフローコントローラ/メータ『GF100シリーズ』

応答速度および繰り返し性に優れたガス流量コントロール用アプリケーション

生産性を最大限に拡大することができます。 【特長】 ■長期的なゼロ点安定性：0.5％フルスケール/年以下 ■セトリングタイム：700 ms - 1秒以下 ■フルスケール流量レート 最大300 slpm ■メタルシール流路：4µ または 10µ インチ Raの表面仕上げオプション ■耐腐食ハステロイ(R) 製T-Riseセンサにより、温度が上昇しても、 　測定の再現性を向上　など...

メーカー・取り扱い企業： ITWジャパン株式会社