• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 品質文書の課題13:逸脱や変更の進捗管理で作業漏れをなくしたい 製品画像

    品質文書の課題13:逸脱や変更の進捗管理で作業漏れをなくしたい

    PR【複数文書の進捗状況を一元管理。ステータスは自動反映され全体管理が容易…

    逸脱や変更が発生すれば、複数の文書を順序立てて、確実に作成・承認し教育まで管理する必要がありますが、作業漏れのリスクを伴います。 逸脱・変更管理業務の本質は、やるべきことを明確にして、進捗管理をすることです。進捗管理には⼿間が掛かります。 Perma Documentでは、必要な文書とイベントを定義するだけで、文書のワークフロー履歴をもとに進捗のステータスが自動反映されます。 これらの情報は...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社野村総合研究所

  • 塩水噴霧試験 製品画像

    塩水噴霧試験

    高度な分析と”考察力”でお客様の問題解決!耐食性を評価する塩水噴霧試験

    【塩水噴霧複合サイクル試験】 <試験規格:JASO M609,610 JIS H 8502> ■複合サイクル試験条件  ・塩水噴霧:(35±1°C 5%NaCl 0.5h)  ・乾燥:(60±1°C 4h)  ・湿潤:(50°C±1°C 95%RH...

    メーカー・取り扱い企業: イビデンエンジニアリング株式会社 環境技術事業部

  • オゾン暴露試験 製品画像

    オゾン暴露試験

    高度な分析と”考察力”でお客様の問題解決!オゾン暴露試験のご紹介

    暴露試験装置の仕様】 ■型式:スガ試験機(株) OMS-HN OSM-HE OSM-H ■試験槽内寸法:500(W)×500(D)×500(H) [mm] ■温度調節範囲:室温+10[°C]~60[°C] ■オゾン濃度範囲:0.2~1.0[ppm]@紫外線ランプ方式          1~200[ppm]@無声放電方式 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ...

    メーカー・取り扱い企業: イビデンエンジニアリング株式会社 環境技術事業部

1〜2 件 / 全 2 件
表示件数
15件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • banner_202410_jp.jpg
  • Final_300_21-CAN-51700 SignalStar MVP 3rd Party Banners_Ad1 A New Star-300x300_v2-JP.jpg

PR