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【GMORS社】高性能PTFEコーティング技術 ※色付け可能
PR各種様々なゴム材でも静止摩擦係数を70%以上抑制!摩擦製の改善により、…
GMORS社の「高性能PTFEコーティング技術」についてご紹介します。 当技術はドライフィルムであり、一般的な液状潤滑油を使わなくても、 シール材表面の摩擦を低減させる効果があります。 厚さ数ミクロンのコーティングが表面特性に変化を与えただけでなく、 スティックスリップ現象の防止にも役立っています。 なお、掲載カタログにて過去事例もご紹介しておりますので、 是非ダウンロードしてご覧ください。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社誠和商会
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細胞培養液成分を最大16項目同時測定する分析装置!分析解説資料有
PR【細胞培養液分析解説資料進呈】最大16項目を4分30秒で同時測定・分析…
『BioProfile FLEX2』は、細胞培養液成分を最大で16項目同時分析可能な細胞培養環境自動分析装置です。 わずか4分半で代謝・増殖・分化などの培養状況を数値化でき「細胞製造プロセスの継続判断」「大量生産を見据えた培養環境づくり」「GMP対応に向けた品質管理・基準の文書化」などの効率化に貢献します。 複数の形状のサンプル容器を備え、必要な検体量は135~265μLと少量。化学物質、ガス測定...
メーカー・取り扱い企業: ノバ・バイオメディカル株式会社
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シミ、ヤケ、錆の程度にあわせて処理条件を変更可能!電子工業の業界で使用…
『アンラスト 70』は、短時間に素地を荒らすことなく、水素脆化の 心配のない鉄鋼用アルカリ除錆剤です。 フォトエッチングラインの最終工程や製品の再洗浄用処理剤として効果的。 シミ、ヤケ、錆の程度にあわせ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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浸漬法、スプレー法にも対応!剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があり…
【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液又は純水にて希釈 ・温度:常温~70℃ ・時間:20~90秒 ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶/ドラム/ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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水溶性レジスト剥離剤の用途に!アルミニウム基盤にも使用可能です
【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液又は純水にて希釈 ・温度:常温~70℃ ・時間:20~90秒 ■対象物 ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶/ドラム/ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽に...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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アルミ及びアルミ合金材に対する腐食性が無く対応可能!液疲労が小さく非常…
【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:50~70℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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鉄鋼、非鉄金属製の治具等の塗料剥離用途として好適!有機アルカリタイプ
リタイプの水溶性塗料剥離剤のため、鉄鋼、非鉄金属製の 治具等の塗料剥離用途として好適。 18kg缶/200kgドラムでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:常温~70℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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浸漬法、スプレー法にも対応!基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良…
ーリーでご用意しています。 剥離片が小さくなるため、基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良を 防止できます。 【処理条件】 ■濃度:原液処理又は純水にて希釈使用 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあるフォトレジスト剥離液…
レジスト剥離液です。 20kg缶/ドラム/1tコンテナでご用意。 キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあります。 【処理条件】 ■濃度:3倍希釈~原液 ■温度:50~70℃ ■時間:2~10分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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浸漬法、スプレー法に対応!苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品をご紹介
可能なフォトレジスト剥離液です。 ガラス基板の再生・洗浄、樹脂レジストの剥離用途に好適。 苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品です。 【処理条件】 ■濃度:原液処理 ■温度:50~70℃ ■時間:5分前後 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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ポジ型レジストの剥離用途に!浸漬法、スプレー法に対応できます
20kg缶/ドラム/ローリーでご用意。 ドライフィルム、ポジレジストを対象物とし、浸漬法、スプレー法に 対応できます。 【処理条件】 ■濃度:原液又は純水にて希釈 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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浸漬法、スプレー法に対応!浸透性が高いため、細部まで剥離が可能!
ジスト剥離液です。 20kg缶/ドラムでご用意しています。 浸透性が高いため、細部まで剥離が可能。浸漬法、スプレー法に対応できます。 【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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溶剤粉体、電着塗料等の剥離促進などに!高温使用が可能の為、剥離性に優れ…
苛性アルカリに混合し、溶剤粉体、電着塗料等の剥離促進などの用途に好適。 高温使用が可能の為、剥離性に優れています。 【処理条件】 ■濃度:苛性アルカリに2~5%混合 ■温度:70~110℃ ■時間:5~60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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苛性アルカリに混合し、溶剤粉体、電着塗料等の剥離を促進に好適!
経済的。 また、高濃度タイプの為、添加量が少なくてすみ、 塩素系溶剤、有機溶剤中毒予防規則に指定される物質を含みません。 【処理条件】 ■濃度:苛性アルカリに3~7%混合 ■温度:70~110℃ ■時間:5~60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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水溶性レジスト剥離剤に!アルミニウム基盤にも対応可能なレジスト剥離液
珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品で、アルミニウム基盤にも対応可能。 20kg缶/ドラム/ローリーでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度:原液又は純水にて希釈 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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溶剤粉体、電着塗料等の剥離促進に好適!高温使用が可能の為、剥離性に優れ…
比較的少ない為、浴寿命が長く経済的。 また、高温使用が可能の為、剥離性に優れ、塩素系溶剤、 有機溶剤中毒予防規則に指定される物質を含みません。 【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:70~110℃ ■時間:5~60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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鉄鋼、非鉄金属製の治具等の塗料剥離に好適!液性が中性の為、素材を選びま…
水系塗装剥離液です。 液性が中性の為、素材を選びません。 また、剥離物が殆ど溶解しない為、液疲労が小さく、 非常に経済的です。 【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:50~70℃ 【対象物】 ■アルミ・塗料 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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