除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

バックターン洗浄機　自動戻りシステム搭載！

PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現！移動範囲も…

バックターン洗浄機は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法：1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコスト削...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒタカ精機

BS-80020CPPS プラズマソース

無加熱成膜でも密着性が良く、充填密度の高い薄膜が形成できます

【仕様】 最大放電出力：3.2kW (160V, 20A) 放電ガス(Ar)：8～20mL/min ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。 ...

メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社

BS-60610BDS ボンバード蒸着源

ハイレート対応、厚膜成膜、大型装置対応

【仕様】 BS-60610BDS:ボンバード蒸着源　本体 6点ライナータイプ 出力：最大 4.8 kW 冷却水：4～5 L / min, 水温 10 ～ 25°C 動作圧力：5×10-5 ～ 1×10-2 Pa ...

メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社