グラフェンTEMグリッド

親水化処理を施すことにより非常に薄く均一な厚さの氷の層を形成できます！

当製品は、清浄度の高いCVD合成の2層グラフェン自立膜による画期的な TEMグリッドです。 超微粒子、ウィルスなどの透過電子顕微鏡観察用試料支持膜として好適。 親水化処理を施すことにより非常に薄く均一な厚さの氷の層を形成できます。 また、親水化処理済みのグラフェンTEMグリッドの提供も可能です。 【特長】 ■清浄度の高いCVD合成の2層グラフェン自立膜による画期的なTEMグ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エアメンブレン

グラフェン『単結晶グラフェン』

単結晶ドメインは1mm以上も可能！グラフェンマスター社のグラフェン

『単結晶グラフェン』は、任意の基板に転写でき、単層から複層まで基板 への全面転写技術を有するオランダのグラフェンマスター社のグラフェン です。 前処理済みグラフェンを使用目的に応じて加工したり、標準品として h-BN・TEMグリッド・クオーツ等の基板上の単結晶グラフェンの製造も 行っております。 任意の基板に転写可能で、単層から複層まで基板への全面転写も可能です。 【特長...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ニューメタルス　エンド　ケミカルス　コーポレーション

【資料】二次電池負極SEI被膜の元素分布評価・化学状態評価

負極の断面構造・表面形状、活物質断面の元素マッピング像など複合的にアプ…

リチウムイオン二次電池の負極での容量低下の一因として、 活物質と電解液の界面反応により活物質表面に様々なリチウム塩化合物が 複合化したSEI（SolidElectrolyteInterphase）と呼ばれる被膜が 形成されることが挙げられています。 電池の性能向上のためには、SEI被膜の組成・厚み・化学結合状態の 制御が求められています。 当資料では、車載用電池の炭素系の負極活...

メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団　MST

【分析事例】DRAMチップの解析

製品内基板上DRAMのリバースエンジニアリング

代表的なメモリであるDRAMについて製品レベルからTEM観察による素子微細構造解析まで一貫して分析します。 外観観察からレイヤー解析、Slice＆Viewを行うことで構造の全体像を把握し、FIB加工位置をナノレベルで制御し薄片形成後にメモリ部の微細構造をTEM像観察しました。...詳しいデータはカタログをご覧ください...

メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団　MST

全固体高出力小型連続発振レーザ『Genesisシリーズ』

光励起半導体(OPSL)技術を採用！12種類以上の波長モデルをご提供

『Genesisシリーズ』は、ライフサイエンス、メディカル、 ホログラフィ/干渉、ライトショーなどの幅広い用途に ソリューションをご提供する高出力連続発振レーザです。 UVから可視、NIRまでの波長範囲をカバーし、12種類以上の 波長モデルをご提供。 ライフサイエンス、研究、ホログラフィおよび干渉用途に適した 「GenesisCXシリーズ」や、ライトショー応用向けのモデル 「...

メーカー・取り扱い企業： コヒレント・ジャパン株式会社 本社、大阪支店、厚木TEC

【分析事例】CMOSセンサの総合評価

スマートフォン部品のリバースエンジニアリング

市販品のスマートフォンからレンズ、CMOSセンサチップをそれぞれ取り出し、評価した事例をご紹介します。 目的に応じて研磨・FIB加工により、平面、断面を作製し、TEM,SEMにより層構造やレイヤーを確認しまた。さらに、EDXにより膜種の同定を行いました。MSTでは、解体から分析まで一貫してお引き受けが可能です。...詳しいデータはカタログをご覧ください...

メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団　MST