• 協働ロボット パレタイジングシステム 製品画像

    協働ロボット パレタイジングシステム

    PRカゴ台車への荷積みにも対応!お客様の用途に合わせ、多種多様にカスタマイ…

    『協働ロボット パレタイジングシステム』は、省スペース・安全柵不要で運用可能な製品です。 ティーチングペンダント付属で操作も簡単。 また、パレット積みだけでなく、カゴ台車への荷積みにも対応しています。 その他、前後のコンベアー設置など現場環境に合わせご提案を致します。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■8パターンのパレタイジング標準パッケージ ■省スペースに設置可能 ■...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社山善

  • KrosFlo KR2i RPM システム 製品画像

    KrosFlo KR2i RPM システム

    PRサイクル時間を短縮!歩留率を向上させることでプロセスの効率性を高めます

    当社では、リアルタイムプロセス管理とラボスケールタンジェンシャル フローろ過(TFF)を統合した『KrosFlo KR2i RPM システム』を 取り扱っております。 当システムは、KrosFlo KR2i システムとCTech FlowVPX 可変光路長紫外可視分光光度計を組み合わせ、インライン濃度 モニタリングとエンドポイント制御を備えた自動TFFを提供。 KR2iとFlo...

    メーカー・取り扱い企業: レプリジェンジャパン合同会社

  • 高温イオン注入・高温アニール受託サービス【SiC、GaN等】 製品画像

    高温イオン注入・高温アニール受託サービス【SiC、GaN等】

    SiC等のデバイス作製に適した高温イオン注入や、ドーパント活性化のため…

    SiC(シリコンカーバイド)、GaN(窒化ガリウム、ガリウムナイトライド)等の化合物半導体では、デバイス作製に適した高温イオン注入やドーパント活性化のための高温アニールが必要とされます。弊社では、高温イオン注入や高温アニールのリクエストにお応えします。 また、アニール時の温度が高温のため、アニール前のキャップ膜による表面保護が必要になります。弊社では高温アニールだけでなく、PBII(Plas...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター

  • イオン注入装置のラインナップ 製品画像

    イオン注入装置のラインナップ

    低エネルギーから8MeVまでの多彩な注入装置を完備しております。

    室温でのイオン注入はもちろん、世界で数社のみが対応可能な高温でのイオン注入では、トップレベルの技術力と設備を誇ります。 弊社では、チップ小片から300mm(12インチ)径ウエハまで多種多様なサンプル及び、お客様からのご要望に合わせて各種条件での注入処理が可能です。注入条件は10~8,000KeVまで、室温から高温加熱(600℃)まで、イオン種は約60種の対応が可能です。...※詳しくはPDF...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター

  • 今さら聞けない【半導体の基礎知識】~イオン注入~※イラスト解説 製品画像

    今さら聞けない【半導体の基礎知識】~イオン注入~※イラスト解説

    半導体の特性の決め手となるイオン注入の一連の流れをイラストを用いて解説…

    当資料では、イオン注入の基礎として、目的、装置、その評価についてイラストにてご紹介しています。 株式会社イオンテクノセンターでは、研究開発のためのサンプル作製から 量産請負まで、半導体の前工程のプロセスの受託サービスを行っています。 イオン注入でお困りでしたら、是非当社にお任せください。 【掲載内容】 ■イオン注入の基礎知識...※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽に...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター

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