• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 高周波溶着機 電動シリンダー仕様「PLASEST-05E」 製品画像

    高周波溶着機 電動シリンダー仕様「PLASEST-05E」

    PR電動シリンダー搭載で「品質向上・数値管理」 簡単操作で高い生産性を実現…

    「PLASEST-05E型」の稼働に必要なものは200V電源のみで、コンプレッサは不要です。 また、溶着後の厚み・加圧力と高周波条件を数値による設定管理を行う事で出来きます。 加工品の品質向上・安定した製品を生産できる高周波溶着機です。 タッチパネルに条件を保存することにより再現性の高い加工が可能。 電動シリンダーを採用により、下降速度、プレス間隔、加圧力、仕上げ厚みを制御可能。 特...

    メーカー・取り扱い企業: 山本ビニター株式会社

  • inTEST 社製 超高速温度環境試験機 製品画像

    inTEST 社製 超高速温度環境試験機

    高速な温度切り替えで評価スピード向上にご協力できます。

    本装置は、温度コントロールされた圧縮エア(-100℃〜300℃)をエアノズルから噴射し、わずか数秒で温度試験に必要な環境を作り出します。 従来の⽅法と⽐べ、圧倒的に短い時間で温度試験が可能となります。 1.急激な温度変化(18℃/sec) 2.電源と圧縮エアー(⼜は窒素)のみで稼動 3.低温(-100℃)から⾼温(300℃)まで温度設定が可能 ※モデルによって温度範囲が異なります。 4...

    メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社

  • *スニファー専用 ヘリウム・水素リークディテクタ ASM306S 製品画像

    *スニファー専用 ヘリウム・水素リークディテクタ ASM306S

    空調製造が追求する信頼性の高いスニファーリークテスト

    ヘリウム及び水素ガスのトレーサーガスに対応したスニファー専用リークディテクター •軽量(22kg)、ポータブル対応の漏えいチェック可能 •大きなカラーディスプレイ表示 •吸引量が多くてヘリウム及び水素のリカバリー時間を短縮 •3ステージの汚染防止機能付き •流量:300 sccm •最小検知可能リークレート (スニファー法):1E-8 Pa・m3/s •測定可能ガス:4He, 3H...

    メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社

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