超急速凍結機【最大－75℃対応】

PR独自のヒートポンプ開発技術により業界最高クラスの－55℃と－75℃の極…

超急速凍結機【最大マイナス75℃対応】 －1℃～－5℃の最大氷結晶生成温度帯を素早く通過させるため、凍結時に細胞を破壊せず、ドリップ(旨味成分)の流出を抑制。 フードロス削減、食の安全性向上（アニサキス対策等）に大きく貢献します。 【特長】 ■独自のヒートポンプ開発技術により、業界最高クラスの－55℃と－75℃を実現 ■特殊断熱素材の採用により、省エネ（低ランニングコスト）を...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社IFT

排水処理でコスト&CO2削減 FOOMA JAPAN2024出展

PR排水処理を変えればコストもCO2も削減できる。「とくとくーぶぶぶ」は食…

メタン発酵排水処理は酸素のほとんど存在しない環境下で生育する微生物(嫌気性菌)を利用した排水処理法です。処理槽に空気を供給する曝気が不要なため、消費電力を大幅に削減することができます。また、処理に伴い排水中の汚れ(有機物)をメタンガスに変換します。発生したメタンガスは都市ガスと同じ成分であり、ボイラーや発電機の燃料として利用することで従来の燃料(化石燃料)を削減することができます。また、微生物の増...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイブル

【オゾンクラスター1400導入事例】東山 四季花木 様

従業員もお客様も快適に滞在をすることが可能！ウィルス対策とオゾン脱臭を…

オゾン発生器を東山 四季花木様に導入した事例をご紹介します。 前に宿泊された方の香水や体臭の脱臭をスピーディーに行い、通常の オペレーションに加えて感染症対策用のアルコールスプレー消毒も求められ、 現場に非常に負荷がかかっており悩んでおりました。 そこで、『オゾンクラスター1400』を導入。現場のスタッフにも使い方が 非常に簡単で身体の負担も少ないと好評...

メーカー・取り扱い企業： アースウォーカートレーディング株式会社

病理・解剖関連でのホルムアルデヒド暴露対策に！　どこでもドラフト

研究者のガス暴露のリスクを低減することを目的とした どこでもドラフト…

ホルムアルデヒド暴露 組織染色関連でのキシレン暴露 (納入先での使用実績) フェノール/トルエン/キシレン/ベンゼン/ホルムアルデヒド/ＩＰＡ/へプタン/クロロホルム/アセトニトリル/アルコール/ＴＨＦ/ヘキサン/シクロヘキサン/アセトン/オスミウム/グルタルアルデヒド/酢酸/酢酸エチル/ジクロロメタン他 ...

メーカー・取り扱い企業： 湘南丸八エステック株式会社

酸素クラスター除菌脱臭装置『Levion』

病院に最適！オゾン脱臭に比べ人体に優しい酸素クラスターを用いた除菌脱臭…

のイオンを 発生。ヒーター内蔵の為、高湿度環境でも安定したイオン生成が可能です。 また、放電素子が着脱可能なブレード形状になったことにより、客先でも簡単に ブレードの交換が可能なほか、アルコールでの拭き取り清掃ができます。 【特長】 ■高効率に大量のイオンを発生させるマイクロプラズマ放電 ■室内空間において高い脱臭性能を発揮 ■巨大な酸素クラスターイオンが小さなニオイ分子を...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カルモア

ほぼすべての臭いを脱臭可能「Cleフィルター」採用事例集

独自開発・新素材ハ二カム構造の「Cle　フィルター」。臭いの種類に応じ…

建設株式会社様 ■京都大学内研究所 ■つるやゴルフ本店様 【対応できる悪臭・有害なガスの例】 ■アルデビド類 ■硫化物 ■アミン類 ■脂肪酸 ■ケトン類 ■エステル類 ■アルコール類 ■芳香族類 ■その他　有毒ガス ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社シオガイ精機

どこでもドラフト

研究者のガス暴露のリスクを低減することを目的とした どこでもドラフト…

ホルムアルデヒド暴露 組織染色関連でのキシレン暴露 (納入先での使用実績) フェノール/トルエン/キシレン/ベンゼン/ホルムアルデヒド/ＩＰＡ/へプタン/クロロホルム/アセトニトリル/アルコール/ＴＨＦ/ヘキサン/シクロヘキサン/アセトン/オスミウム/グルタルアルデヒド/酢酸/酢酸エチル/ジクロロメタン他 ...

メーカー・取り扱い企業： 湘南丸八エステック株式会社

ガスクロマトグラフィーの排気VOC対策に！　どこでもドラフト

研究者のガス暴露のリスクを低減することを目的とした どこでもドラフト…

ホルムアルデヒド暴露 組織染色関連でのキシレン暴露 (納入先での使用実績) フェノール/トルエン/キシレン/ベンゼン/ホルムアルデヒド/ＩＰＡ/へプタン/クロロホルム/アセトニトリル/アルコール/ＴＨＦ/ヘキサン/シクロヘキサン/アセトン/オスミウム/グルタルアルデヒド/酢酸/酢酸エチル/ジクロロメタン他 ...

メーカー・取り扱い企業： 湘南丸八エステック株式会社

HPLC装置使用時の有機溶媒臭対策に最適　どこでもドラフト

研究者のガス暴露のリスクを低減することを目的とした どこでもドラフト…

ホルムアルデヒド暴露 組織染色関連でのキシレン暴露 (納入先での使用実績) フェノール/トルエン/キシレン/ベンゼン/ホルムアルデヒド/ＩＰＡ/へプタン/クロロホルム/アセトニトリル/アルコール/ＴＨＦ/ヘキサン/シクロヘキサン/アセトン/オスミウム/グルタルアルデヒド/酢酸/酢酸エチル/ジクロロメタン他 ...

メーカー・取り扱い企業： 湘南丸八エステック株式会社

どこでもドラフト　卓上型ガス除去装置　

【デモ機貸出可】活性炭フィルターのおよそ10倍の吸着性能！ 有機溶媒…

ホルムアルデヒド暴露 組織染色関連でのキシレン暴露 (納入先での使用実績) フェノール/トルエン/キシレン/ベンゼン/ホルムアルデヒド/ＩＰＡ/へプタン/クロロホルム/アセトニトリル/アルコール/ＴＨＦ/ヘキサン/シクロヘキサン/アセトン/オスミウム/グルタルアルデヒド/酢酸/酢酸エチル/ジクロロメタン他 ...

メーカー・取り扱い企業： 湘南丸八エステック株式会社