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さまざまな汚染物質からレンズを保護し、更に長寿命化したケミカルフィルタ
「リソガードLPSフィルタ」は、現在もクラス最高レベルにある「リソガードBSMmaxフィルタ」の除去性能を強化し、更なる長寿命化を実現したキャビネット収納タイプのケミカルフィルタです。 さまざまな汚染物質からウエハーやレンズが汚染されないよう保護し、寿命を最大限に保ちます。半導体製造装置はもちろん、超洗浄環境が要求される設備・エリアへ供給する空気中の汚染物質の除...
メーカー・取り扱い企業: 日本ドナルドソン株式会社
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ArF液浸露光など、ハイエンド半導体露光装置向けケミカルフィルタシステ…
「リソガード12」は、ArF液浸露光を始めとするハイエンド半導体露光装置向けに開発された、酸性・塩基性・凝縮性有機ガス除去用HEPAフィルタ付高効率ケミカルフィルタシステムです。 キャビネット内にLPSフィルタまたはBSMmaxフィルタ12枚とHEPAフィルタ6枚を搭載しています。 低濃度環境下においても高い汚染物質除去性能を発揮するため、調清浄環境...
メーカー・取り扱い企業: 日本ドナルドソン株式会社
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高純度の空気環境が必要とされる工程での圧縮空気のろ過に好適です!
「リソガードPOU(Point-Of-Use/ 局所)フィルタ」 は、塩基性・酸性および有機ガスといった汚染物質除去用の配管接続タイプのケミカルフィルタです。 物理および化学吸着により通過気体中の酸性・塩基性・有機ガスを捕集します。 半導体製造・各種開発実験/ 評価試験、レーザー加工機・光学系機器の保護といった、より高純度のCDA...
メーカー・取り扱い企業: 日本ドナルドソン株式会社
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ケミカル汚染物除去フィルタ「リソガードBSMmaxフィルタ」
さまざまな汚染物質からウエハーやレンズを保護し、寿命を最大限にするフィ…
「リソガードBSMmax フィルタ」は、空気中の塩基性・酸性および有機ガスといった汚染物質に対して高い除去性能を発揮するキャビネット収納タイプのケミカルフィルタです。 さまざまな汚染物質からウエハーやレンズが汚染されないよう保護し、寿命を最大限に保ちます。半導体製造装置はもちろん、超清浄環境が要求される設備・エリアへ供給する空気中の汚染物質の除...
メーカー・取り扱い企業: 日本ドナルドソン株式会社
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