• 排水処理でコスト&CO2削減 FOOMA JAPAN2024出展 製品画像

    排水処理でコスト&CO2削減 FOOMA JAPAN2024出展

    PR排水処理を変えればコストもCO2も削減できる。「とくとくーぶぶぶ」は食…

    メタン発酵排水処理は酸素のほとんど存在しない環境下で生育する微生物(嫌気性菌)を利用した排水処理法です。処理槽に空気を供給する曝気が不要なため、消費電力を大幅に削減することができます。また、処理に伴い排水中の汚れ(有機物)をメタンガスに変換します。発生したメタンガスは都市ガスと同じ成分であり、ボイラーや発電機の燃料として利用することで従来の燃料(化石燃料)を削減することができます。また、微生物の増...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイブル

  • サンプル保存用チューブ『二次元コード付きチューブ』 製品画像

    サンプル保存用チューブ『二次元コード付きチューブ』

    PRサンプル管理業務のデジタル化!業務効率化とトレーサビリティ構築に便利な…

    二次元コード付きチューブは、チューブ底面に二次元コード(2Dコード)をもつサンプル保存用チューブです。 当社のThermo Scientific Matrix 2Dチューブは、摩擦や衝撃によるコード脱落や破損に強い2Dコードを持ちます。全てのコードに対して可読性と重複がないことを確認しています。気密性に優れたガスケットと一体成形のスクリューキャップにより、サンプルの輸送や超低温下での長期保管から...

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    メーカー・取り扱い企業: サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社/Thermo Fisher Scientific K.K.

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    Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    『RTP-100』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルのプロセスも可能です。 最大到達温度1200℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ファイバ出力型レーザシステム 製品画像

    ファイバ出力型レーザシステム

    非接触鉛フリーはんだ付け、微細な熱の制御が可能な樹脂溶着に対応したレー…

    ファイバ出力型レーザシステム『FOM system』は、半導体レーザによる 非接触で高品質なはんだ付けが可能です。 極小ビームスポットでのはんだ付けは手作業では困難な微細はんだ付けにも対応。 さまざまなはんだ付け用...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • 日精株式会社 会社案内 製品画像

    日精株式会社 会社案内

    商社機能&メーカで次代を拓く!ニーズに対して確かな技術力でお応えします

    【取扱製品(抜粋)】 ■産業用機械  ・BGA/CSPハンダボール搭載システム  ・超音波カッティング装置 CSX-401  ・エルセ(スケール付着防止装置) ■物資・化成品  ・ダイカスト製品  ・機械加工品  ・チップトレイ ■情報・通信機器  ・生体認...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300 製品画像

    Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    『VPO-1000-300』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ12インチ・Φ6インチ・4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルの プロセスも可能。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。GaNやSiCなどの 新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150 製品画像

    Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    『RTP-150』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(水素+窒素)パージの他、  高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下24本の...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

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