ピュアスチーム発生装置

PR省スペースを実現。ピュアスチーム発生量に比例して供給水量を制御。

本装置は、独自に開発した高効率の上昇流下液膜方式の蒸発缶を採用。 さらに、独自の圧力制御（予測制御）により発生蒸気圧力を安定して供給することが可能です。 SUS316L＋EP仕様でピュアスチーム発生量ごとにラインアップしております。 【特長】 ■蒸発缶と気液分離缶を一体化させることで省スペースを実現 ■始動より定格運転までの立上がりが早い ■飛沫同伴が生じないサイクロン方式の気液分...

メーカー・取り扱い企業： クリーンメカニカル株式会社 本社

泡立ち抑えて強力撹拌「ベルヌーイ流撹拌機ってなに？」【解説資料】

PR製造業の「撹拌」「調合」工程で欠かせない撹拌機。その問題はこの撹拌機で…

2023年に表紙と内容を一新しました。 液体の撹拌に詳しい撹拌タンクメーカーが、 遠心力に着目した撹拌機「ベルヌーイ流撹拌機」を製作。 他の撹拌機となにが違うのか、このPDF仕様ではその特長や仕組みを解説します！ PDFダウンロードボタンよりすぐにご覧いただけます。...＜目次＞ ・「泡立たない」を常識にする撹拌機 ・強力に撹拌できる撹拌機 ・沈殿物の分散に強い撹拌機 ・取...

メーカー・取り扱い企業： MONOVATE(旧：日東金属工業)株式会社 八潮工場

大気中トリチウム捕集装置 「AT-503-H7S型」

大気中のトリチウム濃度を分析測定！サンプリング実験装置

【仕様】 ○電源：AC100V 30A ○外形寸法：H1695×W880×D600（突起部含まず） ○重量：約100kg ○メタンガス：ボンベ10ml/min 0.1MPa ○窒素ガス：ボンベo...

メーカー・取り扱い企業： オーエヌ総合電機株式会社

半導体関連装置 「ウェット式エッチング装置」

ドラフト構造でクリーンルーム仕様！エッチング処理やレジスト除去する装置

「ウェット式エッチング装置」は、半導体関連で使用される各ウェハーをバスケットに入れ、X-Y-Zロボットにて、エッチング処理やレジスト除去の作業を行います。 発生ガス、及び空気は、薬品系、有機溶剤系に出来るだけ分けた状況での排気が可能。 使用不可となった薬液（フッ酸、 塩化鉄）と、有機溶剤（アセトン）は付設の専用タンクへ一括排出します。 クリーンルームでも使用できるドラフト構造です。 【...

メーカー・取り扱い企業： オーエヌ総合電機株式会社

半導体関連装置 「レジスト液加温塗布装置」

純水1/4RC　圧縮空気1/4RC！薬液をスプレー塗布する装置

【標準仕様】 ○ユ－ティリティ　純水1/4RC　圧縮空気1/4RC　排水1/4RC ○外形寸法　　　　W800×H1500×D500 ○電源　　　　　　AC100V　10A ●詳しくはお問い合わせ...

メーカー・取り扱い企業： オーエヌ総合電機株式会社

【医薬・食品業界向け】自動希釈装置 「R2D-EC4型」

各薬品を自動で希釈！確実に計量を行う高性能自動希釈装置

【仕様】 ○液量精度　F.S.± 0.3% ○最大計量　薬液… 4L　純水… 16L ○希釈率　1:2 希釈　1:4 希釈 ○貯留タンク容量　P.P.50L ○ユーティリティー　エアーor窒素　...

メーカー・取り扱い企業： オーエヌ総合電機株式会社

自動希釈装置 「R2D-EC4型」

各薬品を自動で希釈！確実に計量を行う高性能自動希釈装置

【仕様】 ○液量精度　F.S.± 0.3% ○最大計量　薬液… 4L　純水… 16L ○希釈率　1:2 希釈　1:4 希釈 ○貯留タンク容量　P.P.50L ○ユーティリティー　エアーor窒素　...

メーカー・取り扱い企業： オーエヌ総合電機株式会社