表面改質技術『COT処理』※検証動画公開

PR医薬品・食品の付着防止と滑り性改善に。皮膜剥落による異物混入リスクがゼ…

『COT処理』は、独自の表面改質加工により、母材の表面に滑らかで微細な凹凸や、 マルチスケール構造を形成し、滑り性や離型性、洗浄性を高める技術です。 基材表面を改質する技術のため、皮膜剥落による異物混入リスクがなく、 用途に合わせて表面構造を高精度に制御でき、複雑形状品にも施工可能です。 金属、樹脂、セラミック、ガラスなど様々な素材に施工でき、 熱による変形・変色が懸念される薄板...

メーカー・取り扱い企業： 千代田交易株式会社

カット野菜用異物除去装置『UDW-Fseries』

PR肉眼では見つけづらい同色の異物もピンポイントで検出・除去。機器選定のフ…

『UDW-Fseries』は、カット野菜を特殊赤外線カメラにより上下両面から検査し、 検出した異物をイジェクターでピンポイントに除去する装置です。 肉眼では見つけづらい同色の異物が混入している場合にも、高精度に検出・除去可能。 変色した葉の検出もできる、色彩検出機能が付いたタイプもラインアップしています。 ★他にも、様々な検出方式に対応した食品用異物除去装置を提供しています。 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社服部製作所

テトラフルオロメタン CF4 75-73-0

テトラフルオロメタン CF4 75-73-0

テトラフルオロメタンは、現在、マイクロエレクトロニクス産業におけるプラズマエッチングガスの最大週間量であり、シリコン、二酸化ケイ素および他の薄膜村材料のエッチングに広く使用され、電子デバイスの表面洗浄、太陽電池の製造、レーザー技術などでは、アプリケーションの数も多い。...テトラフルオロメタンは、現在、マイクロエレクトロニクス産業におけるプラズマエッチングガスの最大週間量であり、シリコン、二酸化ケ...

メーカー・取り扱い企業： CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

四フッ化ゲルマニウム　GeF4　7783-58-6　6N

四フッ化ゲルマニウム　GeF4　7783-58-6　6N

四フッ化ゲルマニウムは重要な無機化合物の一種で、半導体分野では主にドーピングとイオン注入の時に使用されます。四フッ化ゲルマニウムはエチルシランガスと組み合わせることができ、直接ガラス基板上にシリコンゲルマニウム微結晶を作成し、低ノイズ低温アンプ、整流器、発振器、およびその他の半導体デバイスの製造に使用されます；光学分野では、四フッ化ゲルマニウムは光学ガラス製造の場面で添加剤として使用され、光学ガラ...

メーカー・取り扱い企業： CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

三フッ化窒素 NF3　7783-54-2

三フッ化窒素 NF3　7783-54-2

NF3の3つの主な用途は、1、高エネルギー化学レーザーガス用のフッ素源として、2、エレクトロニクス産業（IC）におけるエッチング液および洗浄剤として、3、太陽光発電産業である。 NF3のその他の用途：パーフルオロアンモニウム塩の製造、電球の寿命と輝度を高める充填剤ガスとしての使用、鉱業やロケット技術における酸化剤としての使用など。...NF3の3つの主な用途は、1、高エネルギー化学レーザーガス...

メーカー・取り扱い企業： CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO