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PR医薬品・食品の付着防止と滑り性改善に。皮膜剥落による異物混入リスクがゼ…
『COT処理』は、独自の表面改質加工により、母材の表面に滑らかで微細な凹凸や、 マルチスケール構造を形成し、滑り性や離型性、洗浄性を高める技術です。 基材表面を改質する技術のため、皮膜剥落による異物混入リスクがなく、 用途に合わせて表面構造を高精度に制御でき、複雑形状品にも施工可能です。 金属、樹脂、セラミック、ガラスなど様々な素材に施工でき、 熱による変形・変色が懸念される薄板...
メーカー・取り扱い企業: 千代田交易株式会社
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紫外線殺菌装置 紫外線ランプ搭載水殺菌装置 ※FOOMA出展
PRFOOMA JAPAN2024出展ぜひご来場ください 紫外線(UV)殺…
東芝ライテックでは食品・飲料の製造をはじめ、様々な用途の水処理で活躍する、 紫外線ランプを搭載した『水殺菌装置』をラインアップしています。 装置の種類が豊富で、様々なシーンに適用可能です。 装置は、幅広いテストを経て、厳格な検証・認定試験にも合格した 信頼性や品質の高いものばかりを取り揃えています。 【UVを使用した水処理のメリット】 ■熱や化学薬品を使わずに殺菌が可能 ■設...
メーカー・取り扱い企業: 東芝ライテック株式会社 次世代ソリューション事業本部 UV水殺菌システム部
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フォトレジスト現像設備清掃用の洗浄剤!NBRなどの軟質ゴムにも使用が可…
【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液または水にて希釈 ・温度:常温 ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・10kg缶~ローリー ※詳しく...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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結晶化したシリカ系スケール除去に!青色ジェルなので拭き残しが一目で分か…
【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度(%):原液 ・温度(℃):常温 ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・500ml~10L缶 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要なフォトマスク洗浄剤をご紹介!
【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液 ・温度:常温 ■対象物 ・ガラス ・ドライフィルム ・その他 ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・14kg缶 ※詳しくはPDF資料をご覧い...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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配管内に付着したスケールの洗浄液で、SUS304や塩ビへの影響がなく使…
【処理条件】 ■濃度(%):原液 ■温度(℃):常温 ■時間:15分~2時間 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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漬循環あるいは直接汚れに塗布することによって、洗浄時間の短縮・効率化が…
『アンラスト ROS-2』は、レジスト処理設備の洗浄剤です。 「アンラスト ROS」の改良品で、塩ビやフッ素ゴムに対するダメージが 殆どありません。 レジストスラッジが固着した設備配管や処理槽壁面に対して、漬循環あるいは 直...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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排水処理を変えればコストもCO2も削減できる。「とくとくーぶぶ…
株式会社エイブル -
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入荷品のテスト、プロセス中間体のモニタリング、最終製品配合のス…
ブルカージャパン株式会社 バイオスピン事業部