電気化学分析装置《めっき液や微量金属の分析に好適なVA&CVS》

ボルタンメトリー(VA)なら、めっき液の研究開発＆品質管理、排水など各…

トリー（VA）によるトレース分析と金属分析》 電気化学測定法を用いて、溶液中の銅、ニッケル、鉛、水銀、金、銀などの各種微量金属・重金属をppt、ppbレベルで迅速かつ正確に測定する装置です。 半導体、バッテリー、めっき液などの化学工業分野のほか、排水や河川水中の微量金属イオンの管理といった環境分野への応用もできます。 《サイクリックボルタンメトリー（CVS）＆サイクリックパルスボルタン...

メーカー・取り扱い企業： メトロームジャパン株式会社 本社

【自動滴定装置 技術資料】酸性銅めっき浴中の塩化物イオン

半導体ウェハー上へのCu成膜に使われる酸性銅鍍金浴の塩化イオン濃度を電…

酸性銅めっき浴は、主に半導体ウェハ―状へのCu成膜に用いられます。 塩化物が少量含まれていると、成膜速度が上がり、アノード分極が抑えられます。 しかし、濃度が高くなりすぎるとCu成膜の品質が低下するため、好ましくありませ...

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【プロセス分析計 技術資料】現像液中のTMAHをオンライン分析

半導体産業向け！プロセス分析計 / オンライン分析計で現像液中の水酸化…

CD）の製造に用いられる第4級アモニウム塩で、これらのデバイス製造時のフォトリソグラフィ工程で最もよく使用されます。 この工程では、フォトレジスト現像液を使用して、基板上にパターンを転写します。半導体産業で使用される薬品は、極めて純粋でなければなりません。なぜなら、微量の汚染物質でさえ、電気的特性に悪影響を及ぼすからです。 現像工程はフォトリソグラフィにおける重要な段階であり、生産効率を上げ...

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【プロセス分析計 技術資料】ウェハ用洗浄槽の品質管理

ウェハ用洗浄槽の水酸化アンモニウム、過酸化水素、塩酸の同時分析をインラ…

半導体メーカーではクリーンルーム内のウェットベンチで標準的な洗浄工程を行い、環境を管理し、さらなる汚染を防いでいます。しかし、このような環境では分析装置を設置するためのスペースが非常に限定的であることが一般的です。 試薬を使わず、より安全で効率的、かつ迅速に洗浄液の主要パラメータを同時にモニタリングするには近赤外分光法（NIRS）によるインライン分析が有効です。 オンライン分析計　プロセス分析計　イ...

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