• 気中ハンドヘルドパーティクルカウンタ『KC-52A』 製品画像

    気中ハンドヘルドパーティクルカウンタ『KC-52A』

    PRタッチパネル式で多機能!多点モニタリングシステムに対応しています

    『KC-52A』は、ISO 21501-4(JIS B 9921)に適合した 気中ハンドヘルドパーティクルカウンタです。 医薬品・飲料・食料品の製造工程やパッキング工程の環境管理、 半導体製造現場の環境管理、病院や医療現場の清浄度管理などに 適しています。               【特長】 ■粒径区分は0.3、0.5、1.0、2.0、5.0、10.0μm(6段階) ■パスワードの設定により...

    メーカー・取り扱い企業: トスク株式会社(旧十慈フィールド)

  • 撹拌機「AJITER」×水圧モータ「NADS」 製品画像

    撹拌機「AJITER」×水圧モータ「NADS」

    PR水の力で撹拌機を動かす!エアーを使わないので空気が綺麗、電気を使わない…

    水道水を作動流にするNADSの水圧モータを使用した撹拌機です。 エアーを使わないので空気が綺麗、電気を使わないので環境に配慮した 安全・安心な撹拌機です。 【NADSとは?】 NADSはNACOL株式会社の新・水圧技術(ADS: Aqua Drive System)を 使用したポンプやモータ、リリーフ弁、ソレノイドバルブ等を展開する シリーズ。空圧や電気駆動では難しかった高性能な駆...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社島崎エンジニアリング 本社

  • 化合物半導体系超格子サンプルにおける深さ分解能測定 製品画像

    化合物半導体系超格子サンプルにおける深さ分解能測定

    化合物半導体サンプルを試料に、深さ分解能を測定した結果を紹介。

    置です。 Q-pole SIMS(アルバックファイ:ADEPT-1010)によっては、Al0.28Ga0.72As/GaAs を 50nm ずつ分子線エピタキシー(MBE)で成膜した化合物半導体サンプルを 試料として用い、深さ分解能を求めました。 1次イオンビームを最適化したところ、Al0.28Ga0.72As 膜と GaAs 膜の界面での 27Al のプロファイルの傾きから深さ方...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター

  • 株式会社イオンテクノセンター 会社案内 製品画像

    株式会社イオンテクノセンター 会社案内

    イオン注入・成膜・分析の技術と設備をさまざまな分野のイノベーションにつ…

    と設備を備えた先端の 研究開発を行い、日本を代表する創造的ラボラトリーをめざします。 【事業内容】 ■イオン工学に関する研究開発受託 ■イオン工学に関する装置による金属、セラミックス、半導体材料等の  表面処理等の加工 ■物理分析評価サービス業務 ■技術情報提供サービス業務 ■大学及び研究機関における研究成果および特許権、実用新案権、意匠権、  商標権等の産業財産権その他無...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター

  • 化合物半導体系超格子サンプルにおける深さ分解能測定 事例集 製品画像

    化合物半導体系超格子サンプルにおける深さ分解能測定 事例集

    化合物半導体系超格子サンプルを使用した深さ分解能測定の結果を掲載!

    例集です。 Q-pole SIMS(アルバックファイ:ADEPT-1010)によって、 Al0.28Ga0.72As/GaAsを50nmずつ分子線エピタキシー(MBE)で成膜した 化合物半導体サンプルを試料として用いて、深さ分解を求めた結果を 掲載しています。 【掲載概要】 ■深さ分解能測定の結果 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター

  • アルミイオン注入深さ分析 製品画像

    アルミイオン注入深さ分析

    検出下限を1E16n/cm3に下げることが出来ました。SIMSによる分…

    半導体材料開発には不純物分析が重要ですが、高感度で分析できる二次イオン 質量分析(SIMS)が適しています。 SIMS(アルバックファイ:ADEPT-1010)によって、シリコンへアルミニウムを イオン注入したサンプルを分析した結果を紹介します。 アルミニウムの質量数はシリコンと隣接しているため Q ポール型 SIMS では 測定が困難ですが、測定条件を最適化することによって検出下限を...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター

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