ネジ山をなめてしまった…その課題『エンザート』が解決します！

PR壊れたネジ穴を再生・補修して強度もアップ！タップ立て不要で、めねじやコ…

部品のネジ山（めねじ）が破損した場合、どうしていますか？ 「ヘリサート・リコイルなどのコイルインサートを使用している」 「サイズアップで立て直しをしている」 「部品交換をしている」 など様々な対応をされているかと思います。 エンザートならその部品を救えるかもしれません！ ケー・ケー・ヴィ・コーポレーションが取り扱う『エンザートSBE』は、垂直出しが容易な三つ穴タイプのインサートナットです。 先...

メーカー・取り扱い企業： ケー・ケー・ヴィ・コーポレーション株式会社

【デモ機あり】 粉体溶解機 / 粉末溶解ポンプ

PR様々な粉体を液体中に分散・溶解が可能！　ダマや溶け残りなし・短時間処理…

粉体の液体中への分散・溶解というと、タンク内の大型撹拌機で攪拌する、もしくはハンドミキサーで小容量の攪拌を何回も繰り返す、というのが一般的かと思います。ただ、これらの方法ではダマや粉体の溶け残り、処理時間が遅い、作業者に負担がかかるなど、お悩みはありませんか？ 弊社の粉体溶解機を使用すれば粉体投入口が腰の位置にあるため、作業者の負担が軽減され効率的な作業が可能です。また、短時間で処理ができ、ダマ...

メーカー・取り扱い企業： 関西乳機株式会社

【自動滴定装置 技術資料】酸性銅めっき浴中の塩化物イオン

半導体ウェハー上へのCu成膜に使われる酸性銅鍍金浴の塩化イオン濃度を電…

酸性銅めっき浴は、主に半導体ウェハ―状へのCu成膜に用いられます。 塩化物が少量含まれていると、成膜速度が上がり、アノード分極が抑えられます。 しかし、濃度が高くなりすぎるとCu成膜の品質が低下するため、好ましくありませ...

メーカー・取り扱い企業： メトロームジャパン株式会社

【プロセス分析計 技術資料】現像液中のTMAHをオンライン分析

半導体産業向け！プロセス分析計 / オンライン分析計で現像液中の水酸化…

CD）の製造に用いられる第4級アモニウム塩で、これらのデバイス製造時のフォトリソグラフィ工程で最もよく使用されます。 この工程では、フォトレジスト現像液を使用して、基板上にパターンを転写します。半導体産業で使用される薬品は、極めて純粋でなければなりません。なぜなら、微量の汚染物質でさえ、電気的特性に悪影響を及ぼすからです。 現像工程はフォトリソグラフィにおける重要な段階であり、生産効率を上げ...

メーカー・取り扱い企業： メトロームジャパン株式会社

【プロセス分析計 技術資料】ウェハ用洗浄槽の品質管理

ウェハ用洗浄槽の水酸化アンモニウム、過酸化水素、塩酸の同時分析をインラ…

半導体メーカーではクリーンルーム内のウェットベンチで標準的な洗浄工程を行い、環境を管理し、さらなる汚染を防いでいます。しかし、このような環境では分析装置を設置するためのスペースが非常に限定的であることが一般的です。 試薬を使わず、より安全で効率的、かつ迅速に洗浄液の主要パラメータを同時にモニタリングするには近赤外分光法（NIRS）によるインライン分析が有効です。 オンライン分析計　プロセス分析計　イ...

メーカー・取り扱い企業： メトロームジャパン株式会社