『薬液供給システム』のご紹介

1500件を超える多くの実績でお客様満足度の向上に邁進してまいります！

アフターサービスにフィードバックされ、薬液の特性に合わせた信頼性の 高いシステムを提供しています。 【取扱品目】 ■薬液自動供給システム ■CMPスラリー供給設備 ■CMPスラリー希釈・調合設備 ■現像液希釈設備 ■フッ酸希釈設備　など ※詳細についてはお問合せください。...

メーカー・取り扱い企業： 住友ケミカルエンジニアリング株式会社 本社

レジスト剥離液『アンラスト M6』

ポジ型レジストの剥離用途に！浸漬法、スプレー法に対応できます

スト剥離液です。 20kg缶／ドラム／ローリーでご用意。 ドライフィルム、ポジレジストを対象物とし、浸漬法、スプレー法に 対応できます。 【処理条件】 ■濃度：原液又は純水にて希釈 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト No.1D』

水溶性レジスト剥離剤に！アルミニウム基盤にも対応可能なレジスト剥離液

ご紹介します。 珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品で、アルミニウム基盤にも対応可能。 20kg缶／ドラム／ローリーでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度：原液又は純水にて希釈 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト M10』

浸漬法、スプレー法にも対応！基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良…

／ドラム／1tコンテナ／ローリーでご用意しています。 剥離片が小さくなるため、基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良を 防止できます。 【処理条件】 ■濃度：原液処理又は純水にて希釈使用 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液『アンラスト OS15』

キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあるフォトレジスト剥離液…

レジストの剥離に適したフォトレジスト剥離液です。 20kg缶／ドラム／1tコンテナでご用意。 キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあります。 【処理条件】 ■濃度：3倍希釈～原液 ■温度：50～70℃ ■時間：2～10分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所