アセチレン誘導体『ビニルエーテル』

当社が取り扱う低粘度・低刺激性の“水酸基含有ビニルエーテル”をご紹介し…

当社独自の製造技術による水酸基含有「ビニルエーテル」類は、塗料、 コーティング、インキの反応性希釈剤として有用です。 水酸基と（メタ）アクリレート、ウレタンやエポキシとの反応により、 反応性のモノマーやオリゴマーを合成することも可能です。 また、このタイプの「ビニルエーテル」類は、...

メーカー・取り扱い企業： 丸善石油化学株式会社

中間材料『トウプリプレグ』

高品質なCFRPやGFRPを成形することが可能！粘着性を保った状態を維…

【生産方法】 ■ガラス繊維やカーボン繊維をボビンから繰り出す ■繰り出した繊維はレジンバス内にて有機溶剤で希釈した樹脂を含浸させる ■繊維は熱風加熱炉内を通過することで溶剤を飛ばし、Bステージ(樹脂が半乾き)の 　粘着性を保った状態にする ■再度、紙管に巻き取ることでトウプリプレグボビンの完成である ...

メーカー・取り扱い企業： 三星工業株式会社 三星工業　本社・工場

三星のサービス

量産までカバーし支給品での対応も可能！TPを用いた成形品製作も行ってい…

、バサルト繊維　など ■樹脂：エポキシ樹脂、ビニルエステル樹脂、フェノール樹脂　など ■巻取り紙管：内径φ76mm×長さ280mm ■巻き幅：240mm ■含浸方法：フリーディッピング(溶剤希釈法) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 三星工業株式会社 三星工業　本社・工場

レジスト剥離液『アンラスト M6』

ポジ型レジストの剥離用途に！浸漬法、スプレー法に対応できます

スト剥離液です。 20kg缶／ドラム／ローリーでご用意。 ドライフィルム、ポジレジストを対象物とし、浸漬法、スプレー法に 対応できます。 【処理条件】 ■濃度：原液又は純水にて希釈 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト No.1D』

水溶性レジスト剥離剤に！アルミニウム基盤にも対応可能なレジスト剥離液

ご紹介します。 珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品で、アルミニウム基盤にも対応可能。 20kg缶／ドラム／ローリーでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度：原液又は純水にて希釈 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト M10』

浸漬法、スプレー法にも対応！基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良…

／ドラム／1tコンテナ／ローリーでご用意しています。 剥離片が小さくなるため、基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良を 防止できます。 【処理条件】 ■濃度：原液処理又は純水にて希釈使用 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液『アンラスト OS15』

キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあるフォトレジスト剥離液…

レジストの剥離に適したフォトレジスト剥離液です。 20kg缶／ドラム／1tコンテナでご用意。 キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあります。 【処理条件】 ■濃度：3倍希釈～原液 ■温度：50～70℃ ■時間：2～10分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

炭酸次亜塩素酸水 JIA.Z 20ℓ

炭酸次亜塩素酸水JIA.Zは、塩酸を使用せず炭酸を使い溶液いたします。…

素ガス発生がゼロ 2. 製造時にph5.0〜5.2で製造その為 次亜塩素酸存在率が99%〜97% と完璧な弱酸性でお肌にも優しく、優れた除菌率と消臭力が違います。 3. 希釈をしない為、phとppmを気にしなくても大丈夫 誰でも簡単に取扱ができます。 4. 口に入っても体に害はありません 野菜、果物にかけて問題ありません。 5. 超音波加湿器...

メーカー・取り扱い企業： フジファイン株式会社 本社