• JIB-4700F 複合ビーム加工観察装置 製品画像

    JIB-4700F 複合ビーム加工観察装置

    1kVの低加速電圧で保証分解能1.6nmを実現しました

    日本電子株式会社 JIB-4700F 複合ビーム加工観察装置は、形態観察、元素分析や結晶解析などの評価技術にも高い分解能と精度のニーズに応える装置です。 「インレンズショットキー電子銃」との組み合わせで、高分解能観察と高速分析が可能です。 〇特長 ・高分解能SEM観察 ・高速分析 ・高速加工 ・検出システム強化 ・三次元観察、三次元分析 ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問...

    メーカー・取り扱い企業: アズサイエンス株式会社 松本本社

  • 電子ビーム金属3Dプリンター JAM-5200EBM 製品画像

    電子ビーム金属3Dプリンター JAM-5200EBM

    燃料消費の削減や出力の向上が可能です。

    日本電子株式会社 電子ビーム金属3Dプリンター「JAM-5200EBM」は、高品質かつ再現性の高い造形や複数部品の一体化、軽量化による燃料消費の削減や出力の向上、コスト削減や開発期間の短縮を可能にします。 〇主な特長 ・高出力 (最大6 kW) ・長寿命カソード (1,500時間以上) ・パウダーベッド面加熱 (最大1,100℃以上) ・粉末飛散防止機構“e-Shield” ・電子ビーム自動調整...

    メーカー・取り扱い企業: アズサイエンス株式会社 松本本社

  • 高性能ガスクロマトグラフ飛行時間質量分析計 製品画像

    高性能ガスクロマトグラフ飛行時間質量分析計

    高質量分解能、高質量精度、高感度、高速データ取得、広ダイナミックレンジ…

    日本電子株式会社 JMS-T2000GC AccuTOF GC-Alpha 高性能ガスクロマトグラフ飛行時間質量分析計は、質量分解能と質量精度を向上し、質量分析を正確に行う装置です。 〇特長 ・好感度と超高分解能の両立 ・高速データ取得 ・広ダイナミックレンジ ・広質量範囲 ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。...【仕様】 イオン源:電子イオン化 分析部...

    メーカー・取り扱い企業: アズサイエンス株式会社 松本本社

  • TP-40020NPS 高周波誘導熱プラズマナノ粒子合成装置 製品画像

    TP-40020NPS 高周波誘導熱プラズマナノ粒子合成装置

    従来別置きであった各ユニットをワンパッケージ化し、コンパクトで手軽なシ…

    日本電子株式会社 TP-40020NPS 高周波誘導熱プラズマナノ粒子合成装置は、超高温・高純度・高化学反応場のRF熱プラズマを利用し、ナノ粒子の合成や微粒子の球状化・改質など様々な材料開発が行える研究開発装置です。 約1万度の熱プラズマ中に連続的に原料(粉体/ガス/液体)を供給し、蒸発/溶融/化学反応等のプラズマプロセッシングを行います。 〇特長 ・アルゴンが主体の熱プラズマに、酸素や水素、窒...

    メーカー・取り扱い企業: アズサイエンス株式会社 松本本社

  • TP-99140FDR 粉末供給装置 製品画像

    TP-99140FDR 粉末供給装置

    1台で幅広い粒子サイズや供給レートに対応できます。

    日本電子株式会社製粉末供給装置は粉末をキャリアガスで搬送するタイプの連続式粉体定量供給機(パウダーフィーダー)です。 レート制御に対応している機種 (TP-99260FDR 粉末供給装置 ) もあります。 〇特長 ・汎用性 ・微粒子供給 ・低レート供給 ・微量キャリアガス流量 ・減圧下への供給 ・分岐供給 ※詳細はPDFをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...【仕様】 粉末搬送手...

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  • JEBG series 直進形電子銃・電源 製品画像

    JEBG series 直進形電子銃・電源

    電子ビームは広範囲に高速で走査する事ができます。

    日本電子株式会社 JEBG series 直進形電子銃・電源は、真空中で金属や酸化物を蒸着または溶解するための高出力の電子ビーム源です。連続的に走行する幅広の長尺フィルムや大面積のガラス基板上へハイレートで成膜します。また電子ビーム溶解用として、高融点金属のインゴット作製・精錬に使用されます。 〇特長 ・広範囲に高速で走査可能 ・様々なビーム照射パターンやエリアを作成可能 ・溶融面や膜厚分布の制...

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  • TP-99260FDR 粉末供給装置 製品画像

    TP-99260FDR 粉末供給装置

    粉末供給レート自動制御機能が搭載されました。

    日本電子株式会社 TP-99260FDR 粉末供給装置には、粉末がより安定して供給できるように粉末供給レート自動制御機能が新しく搭載されました!!外部制御も可能となりました。凝集性が高く、流動性の悪い数ミクロン以下の微粒子を、指定した粉末供給レートで自動制御しながら定量供給が可能です。 〇特長 ・微量供給 ・安定供給 ・微粉供給 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わ...

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  • IB-19520CCP 断面試料作製装置 製品画像

    IB-19520CCP 断面試料作製装置

    加工時に試料を液体窒素冷却する事によりイオンビームによる熱ダメージを軽…

    日本電子株式会社 IB-19520CCP 冷却クロスセクションポリッシャ断面試料作製装置は、加工時に試料を液体窒素冷却する事によりイオンビームによる熱ダメージを軽減させる事が出来ます。 冷却保持時間も長く、液体窒素の消費量を抑えた構造になっています。 〇特長 ・液体窒素を入れたまま、短時間で試料の冷却、室温戻し、取り外しが可能 ・大気非曝露環境下で、加工から観察までを行う為の搬送機構付き ・自動...

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  • クロスセクションポリッシャ ハイスループットミリングシステム 製品画像

    クロスセクションポリッシャ ハイスループットミリングシステム

    世界最速クラスのイオンミリングスピードを実現!

    日本電子株式会社 断面試料作製装置クロスセクションポリッシャ「IB-19530CP、IB-19520CCP」に新開発イオンソースを採用した「IB-10500HMSハイスループットミリングシステム」を開発しました。 HMS装着により、断面ミリングレート、1.2mm/hを実現しました。(従来比2.4倍) ※IB-1530CP,IB-1520CCPのオプション 〇特長 ・ハイスループット加工 ・広域平...

    メーカー・取り扱い企業: アズサイエンス株式会社 松本本社

  • IB-19530CPクロスセクションポリッシャ 断面試料作製装置 製品画像

    IB-19530CPクロスセクションポリッシャ 断面試料作製装置

    機能ホルダーを交換することで多機能化を実現

    日本電子株式会社 IB-19530CPクロスセクションポリッシャ 断面試料作製装置は、多様化する市場ニーズに応えるべく、マルチパーパスステージを採用し、各種機能ホルダーを交換することで多機能化を実現しました。 用途に応じた機能ホルダーを選択することにより、断面ミリングだけではなく、平面ミリング、イオンビームスパッタコーティングなどの機能が拡張できます。 〇特長 ・自動加工プログラム ・マルチパー...

    メーカー・取り扱い企業: アズサイエンス株式会社 松本本社

  • 高分子材料研究、医薬品や電子・化学分野の異物分析や品質管理等に! 製品画像

    高分子材料研究、医薬品や電子・化学分野の異物分析や品質管理等に!

    化学結合状態分析、バイオロジーからナノテクノロジー・ポリマー・最先端材…

    様々な分野で活躍できる、日本電子株式会社の商品を3つご紹介いたします。 ご興味のある方はお気軽にお問い合わせください。 〇JPS-9030 光電子分光装置(XPS)  「誰もが、簡単に、直ぐに使えること」を実現した汎用型XPSです。カウフマン型エッチングイオンソースやツインアノードを標準装備の上、汎用XPSでありながら高温加熱システムやガスクラスターイオンソース等幅広い拡張性も備えています。 ...

    メーカー・取り扱い企業: アズサイエンス株式会社 松本本社

  • JIB-PS500i FIB-SEMシステム 製品画像

    JIB-PS500i FIB-SEMシステム

    試料作製、観察、分析の先端技術

    日本電子株式会社 JIB-PS500iは、TEM試料作製をアシストする3つのソリューションを提供します。 試料作製からTEM観察まで、確実かつ高スループットなワークフローで作業することができます。 〇特長 ・二軸傾斜カートリッジとTEM ホルダーによりTEM ⇔ FIBのリンクを容易に ・カートリッジは専用のTEM 試料ホルダーにワンタッチで装着可能 ・正確かつ迅速にピックアップ作業可能 ・TE...

    メーカー・取り扱い企業: アズサイエンス株式会社 松本本社

  • TP series 高周波誘導熱プラズマ装置 製品画像

    TP series 高周波誘導熱プラズマ装置

    無電極のため、原料成分のまま蒸発または溶融することができます。

    日本電子株式会社 TP series 高周波誘導熱プラズマ装置は、高周波誘導により約1万度の熱プラズマを発生させ、物理的/化学反応的プロセスにより、球状化、ナノ粒子合成や厚膜合成が行えます。 〇特長 ・沸点の異なる異種原料でも、フラッシュ蒸発可能 ・高純度の材料合成が可能 ・酸化 / 還元 / 窒化 / 炭化などの化学反応や改質が可能 ・原料を十分に加熱・反応させることが可能 ※詳細はお気軽に...

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