• なぜおこる?袋体が固まる理由と対処策方法 製品画像

    なぜおこる?袋体が固まる理由と対処策方法

    PR素材別粗砕実績表進呈中!粗砕機を使って固結した袋体材料をらくらく粉砕処…

    “なぜ袋体は固まるのか”ご存知でしょうか? 固結には、真正固結と疑似固結の2種類があります。 含水率や吸湿性などの内部的要因や、大気の相対湿度や包装時の温度などの外部的要因等が原因に御座います。 シンコー化成が取り扱う『モミクラ』は、固まった粉体材料を袋や段ボールから出さずに1袋あたり4秒で粉に戻せる袋体粗砕機です。 オイルをさすだけの楽々メンテナンス。人による粗砕作業をカット...

    メーカー・取り扱い企業: シンコー化成株式会社

  • 麹菌発酵による高吸収型イソフラボン「アグリマックス(R)」 製品画像

    麹菌発酵による高吸収型イソフラボン「アグリマックス(R)」

    PR大豆胚芽+独自の麹菌発酵製法で生まれたアグリコン型イソフラボン。25年…

    独自の発酵技術によって、大豆胚芽のみを麹菌発酵させ製造しております。 大豆胚芽に多く含まれるダイゼインは穏やかに作用するため、副作用リスクが非常に低く、安全に摂取することができます。 また、ほかの大豆イソフラボンと比較しても、アグリマックスは更年期症状の緩和だけでなく、抗酸化や美容、妊活、エクオール産生能向上、男性の前立腺肥大などに対しても様々なデータがございます。 無償原料サンプルもございます...

    メーカー・取り扱い企業: ニチモウバイオティックス株式会社

  • Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100 製品画像

    Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルのプロセスも可能です。 最大到達温度1200℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(水素+窒素)パージの他、  高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下18本...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • 【小型&軽量】UV-LED照射装置 製品画像

    【小型&軽量】UV-LED照射装置

    卓上で使えるコンパクトなLED硬化装置。上面と下面から照射が可能で、手…

    本製品は、紫外線照射装置です。 小型でリーズナブルながら、費用対"硬化"(=効果)をとことん追求しています。 半導体、樹脂材料、フィルム、接着剤などの研究開発等、さまざまな分野でご利用いただいています。また、蛍光灯タイプ(※本製品は、LED照明)もご用意しております! 【特長】 ■ランプの方向を変えることで上面及び...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • 12インチ(300mm)ウエハ対応 LED UV照射器 製品画像

    12インチ(300mm)ウエハ対応 LED UV照射器

    卓上で使えるコンパクトなLED硬化装置。照射が可能で、手ごろな価格も魅…

    本製品は、紫外線照射装置です。 小型でリーズナブルながら、費用対"硬化"(=効果)をとことん追求しています。 半導体、樹脂材料、フィルム、接着剤などの研究開発等、さまざまな分野でご利用いただいています。また、蛍光灯タイプ(※本製品は、LED照明)もご用意しております! 【特長】 ■ランプの方向を変えることでUV照射...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300 製品画像

    Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    加熱炉です。 Φ12インチ・Φ6インチ・4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルの プロセスも可能。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。GaNやSiCなどの 新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(水素+窒素)パージの他、  高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下24本のI...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150 製品画像

    Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    『RTP-150』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(水素+窒素)パージの他、  高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下24本...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • 【小型&軽量】UV(紫外線)照射装置 ~上下両面照射タイプ~ 製品画像

    【小型&軽量】UV(紫外線)照射装置 ~上下両面照射タイプ~

    卓上で使えるコンパクトな硬化装置。上/下両面照射が可能で、手ごろな価格…

    本製品は、上/下両面照射が可能な紫外線照射装置です。 小型でリーズナブルながら、費用対"硬化"(=効果)をとことん追求しています。 半導体、樹脂材料、フィルム、接着剤などの研究開発等、さまざまな分野でご利用いただいています。(※LED照明タイプもございます。) 【特長】 ■上/下両面照射が可能 ■小型かつ軽量 ■ランプ寿命は4,00...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

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