• タンパク質汚れ可視化ライト【ワープサーチ】WARP Search 製品画像

    タンパク質汚れ可視化ライト【ワープサーチ】WARP Search

    PR菌の増殖源がひと目でわかる医療照明のプロ発明!タンパク質汚れ可視化ライ…

    医療現場のニーズに応えて、医療照明のプロが発明しました。 WARP Searchは、雑菌の増殖源になるタンパク質汚れを特殊な光で可視化します。 普段目に見えないタンパク質汚れが一目でわかるので汚れを見逃さず、洗浄後はキレイが一目瞭然です。 タンパク質汚れには、弊社製品のソウジスキー(アルカリ性)での洗浄が効果的です。 好適な衛生環境を作り上げるために是非ともお役立て下さい。 【デモ機の貸...

    メーカー・取り扱い企業: 合同会社アドミライ

  • レジスト剥離液『アンラスト R510』 製品画像

    レジスト剥離液『アンラスト R510』

    剥離された皮膜は比較的小さい!BOD、COD負荷も他のものと比較して低…

    【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液 ・温度:90~110℃ ・時間:20~90秒 ■対象物 ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶/1tコンテナ/ローリー ※詳しくは...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • レジスト剥離液『アンラスト M71-2』 製品画像

    レジスト剥離液『アンラスト M71-2』

    浸漬法、スプレー法にも対応!剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があり…

    【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液又は純水にて希釈 ・温度:常温~70℃ ・時間:20~90秒 ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶/ドラム...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • 工業用洗浄剤『アンラスト RMR-2』 製品画像

    工業用洗浄剤『アンラスト RMR-2』

    フォトレジスト現像設備清掃用の洗浄剤!NBRなどの軟質ゴムにも使用が可…

    【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液または水にて希釈 ・温度:常温 ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・10kg缶~ローリー ※詳しくはPDF資料を...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • 鉄鋼用アルカリ除錆剤『アンラスト 70』 製品画像

    鉄鋼用アルカリ除錆剤『アンラスト 70』

    シミ、ヤケ、錆の程度にあわせて処理条件を変更可能!電子工業の業界で使用…

    【処理条件】 ■濃度:30%~原液 ■温度:70~105℃ ■時間:20~180秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • レジスト剥離促進剤『アンラスト R500』 製品画像

    レジスト剥離促進剤『アンラスト R500』

    20kg缶と200kgドラムをご用意!ドライフィルムとポジレジストのレ…

    【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:数~10% ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶/200kgドラム ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • 工業用洗浄剤『アンラスト RC-2』 製品画像

    工業用洗浄剤『アンラスト RC-2』

    揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要なフォトマスク洗浄剤をご紹介!

    【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液 ・温度:常温 ■対象物 ・ガラス ・ドライフィルム ・その他 ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・14kg缶 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • レジスト剥離液『アンラスト No.2C』 製品画像

    レジスト剥離液『アンラスト No.2C』

    水溶性レジスト剥離剤の用途に!アルミニウム基盤にも使用可能です

    【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液又は純水にて希釈 ・温度:常温~70℃ ・時間:20~90秒 ■対象物 ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶/ドラム/ローリー ※...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • 防・除錆剤『アンラスト CK』 製品画像

    防・除錆剤『アンラスト CK』

    常温下、短時間の処理で運用が可能!銅、銅合金の変色防止に適しています

    【処理条件】 ■濃度:0.5~1% ■温度:常温 ■時間:10~60秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • 銅・銅合金用化学研磨液『マストーバ C-365A』 製品画像

    銅・銅合金用化学研磨液『マストーバ C-365A』

    処理面には良好な金属光沢が得られる!化学工業、電子工業などの業界にご使…

    【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:常温~50℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • レジスト剥離促進剤『アンラスト F』 製品画像

    レジスト剥離促進剤『アンラスト F』

    剥離液に添加することにより、アルカリ単体では困難な微細加工部の剥離が容…

    【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:数~10% ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・15kg缶/180kgドラム ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • 工業用洗浄剤『アンラスト ROS-2』 製品画像

    工業用洗浄剤『アンラスト ROS-2』

    漬循環あるいは直接汚れに塗布することによって、洗浄時間の短縮・効率化が…

    【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:原液 ・温度:常温~50℃ ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶~ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いた...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • フォトレジスト剥離液『アンラスト TP160』 製品画像

    フォトレジスト剥離液『アンラスト TP160』

    鉄系基材に対し、防・除錆効果あり!生分解性がよく、環境負荷が少ないです

    【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度:数~10% ・温度:50~110℃ ■対象物 ・鉄 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・化学工業 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶/200kgドラム...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

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