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    ピュアスチーム発生装置

    PR省スペースを実現。ピュアスチーム発生量に比例して供給水量を制御。

    本装置は、独自に開発した高効率の上昇流下液膜方式の蒸発缶を採用。 さらに、独自の圧力制御(予測制御)により発生蒸気圧力を安定して供給することが可能です。 SUS316L+EP仕様でピュアスチーム発生量ごとにラインアップしております。 【特長】 ■蒸発缶と気液分離缶を一体化させることで省スペースを実現 ■始動より定格運転までの立上がりが早い ■飛沫同伴が生じないサイクロン方式の気液分...

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    メーカー・取り扱い企業: クリーンメカニカル株式会社 本社

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    脱泡機能付2軸スクリューポンプ『デフォーミングポンプ』

    PR非接触ポンプでありながら高自吸(-10m)。味噌やチョコレート、ひき肉…

    『デフォーミングポンプ』は、2軸スクリューポンプの特長である、非接触・無せん断・無脈動・無撹拌といった特性をもちながら 高自吸(-10m)の“脱泡液移送”を実現したポンプです。 軸封部が接液しないため、メカニカルシールは不要。 部品同士の接触が無く金属粉等のコンタミ発生の心配もありません。 脱泡装置が不要になるため、設備費のコストダウンが可能です。 【食品移送時のこんな課題を解決...

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    メーカー・取り扱い企業: 伏虎金属工業株式会社

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    GC/MSによる 発生ガス濃縮装置を用いたアウトガス分析

    GC/MS:ガスクロマトグラフィー質量分析法

    発生ガス濃縮装置はチャンバー内に入れた試料から発生したガスを捕集管にトラップさせる装置です。捕集管にトラップすることで微量の脱ガス成分を濃縮し、GC/MSで高感度に測定できます。試料の種類に合わせて、適したサイズのチャンバーを選択することができ、最大350℃までの加熱に対応しています。...詳しくは資料をダウンロード、またはお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • 【分析事例】GC/MSを用いた発生ガス分析及び高分子材料の同定 製品画像

    【分析事例】GC/MSを用いた発生ガス分析及び高分子材料の同定

    熱分解GC/MSの原理とアプリケーションについて

    熱分解GC/MSは、試料導入部に熱分解装置を設置したガスクロマトグラフ質量分析計です。 複雑な前処理が必要であった高分子材料についても、熱分解装置でサンプルを加熱分解することにより前処理無しでGCに導入して分析を行うことができます。 また、熱分解装置の温度条件とサンプリング条件を変えること(ダブルショット法)で、同一サンプルから添加剤と高分子材料のように異なった2種類の情報を別々に得ることがで...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • [TEM-EDX]エネルギー分散型X線分光法(TEM) 製品画像

    [TEM-EDX]エネルギー分散型X線分光法(TEM)

    EDXは、分析対象領域に電子線照射した際に発生する特性X線の、エネルギ…

    EDXは、分析対象領域に電子線照射した際に発生する特性X線の、エネルギーと発生回数を計測し、元素分析や組成分析を行う手法です。EDS: Energy Dispersive X-ray Spectroscopyとも呼ばれます。 多くの場合、SEMまたはTEMに付属しており、本資料ではTEMに付属のEDXについて紹介します。 ・全元素範囲(B~U)の同時分析が可能(付属装置によりBeの検出も可...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • [XRF]蛍光X線分析法 製品画像

    [XRF]蛍光X線分析法

    照射X線により発生する蛍光X線を検出し、エネルギーや分光結晶で分光する…

    蛍光X線分析(XRF: X‐ray Fluorescence)は照射X線により発生する蛍光X線を検出し、エネルギーや分光結晶で分光することによって、元素分析や組成分析を行う手法です。 ・測定範囲の全エネルギー(Na~U)が同時に短時間で測定可能 ・未知試料の分析に適している ・非破壊分析 ・特殊な試料を除き、前処理不要、大気中での分析が手軽に行える ・ハンドヘルド型の装置で動かせない...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • [TOF-SIMS]飛行時間型二次イオン質量分析法 製品画像

    [TOF-SIMS]飛行時間型二次イオン質量分析法

    試料表面の構造解析を行う手法です。他の分析装置に比べ表面に敏感であるこ…

    試料表面の構造解析を行う手法です。他の分析装置に比べ表面に敏感であることから、最表面の有機汚染の同定などに適した手法です。 スパッタイオン源を用いて、深さ方向に無機・有機物の分布分析が可能です。 ・有機・無機化合物の構造解析・同定が可能 ・異物検査装置の座標データとリンケージが可能 ・ミクロンオーダーの微小異物から数cmまでの定性が可能 ・最表面を感度よく分析することが可能 ・イメ...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • 【分析事例】エポキシ樹脂のTDS分析 製品画像

    【分析事例】エポキシ樹脂のTDS分析

    真空中での有機物からの脱ガス挙動を調査可能です

    エポキシ樹脂は半導体封止材として、また真空装置内外で接着剤や真空リーク対策として使用されています。しかし硬化後であっても加熱により脱ガスが発生する場合があり、製品や装置に悪影響を及ぼす可能性があります。TDS(昇温脱離ガス分析法)は高真空中(1E-7 Pa)で試料を昇温、または温度を保持しながら、脱ガス成分をモニターすることが可能です。以下にエポキシ樹脂についてTDSで温度保持を行い、脱ガスの挙動...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • 【分析事例】ウエハ表面の金属・有機物汚染評価 製品画像

    【分析事例】ウエハ表面の金属・有機物汚染評価

    複数手法の分析結果より、複合的に評価

    製造装置や部品に付着した異物は、製造品の不良や装置動作の不具合などに影響する場合があります。 異物を適切に分析・評価することで発生原因を究明し、不具合を改善することができます。本資料では、Siウエハ表面に付着した汚染をICP-MSとSWA-GC/MS※で複合的に分析した事例をご紹介します。 ※SWA(シリコンウエハアナライザー)-GC/MSとは、ウエハごと電気炉で加熱して有機物をガス化し、GC...

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  • 【分析事例】α-アルミナ(α-Al2O3)のTDS分析 製品画像

    【分析事例】α-アルミナ(α-Al2O3)のTDS分析

    セラミックスの昇温脱離ガス分析

    熱的に安定なα-アルミナは耐熱材料、半導体パッケージ、半導体製造装置の部品など、幅広い用途で 利用されており、中でも緻密質のα-アルミナは真空装置の部材としても用いられます。しかしこのような 部材が昇温された際に発生するガスは製品や装置に悪影響を及ぼすことがあるため、部材からの脱ガ スについて把握しておくことが重要です。今回、多孔質と緻密質のα-アルミナについて、TDS分析(昇温 脱離ガス...

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  • ロックイン発熱解析法 製品画像

    ロックイン発熱解析法

    ロックイン発熱解析法は、電流経路中の僅かな温度上昇を検出します

    ・IR-OBIRCH機能も合わせ持ち、発熱箇所特定後、IR-OBIRCH測定により、故障箇所をさらに絞り込むことができます。 ・赤外線を検出するため、エッチングによる開封作業や電極の除去を行うことなく、パッケージのまま電極除去なしに非破壊での故障箇所特定が可能です。 ・ロックイン信号を用いることにより高いS/Nで発熱箇所を特定でき、Slice & Viewなど断面解析を行うことができます。.....

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • [EBIC]電子線誘起電流 製品画像

    [EBIC]電子線誘起電流

    試料内部の電界構造(半導体の接合構造)に関する情報を得ることができる手…

    SEM装置内で電子線を照射することで、試料内で正孔電子対が発生します。 通常は再結合して消滅しますが、空乏層など内部電界を有する領域で正孔電子対が生じた場合はキャリアが内部電界でドリフトされることで起電流として外部に取り出すことができます。 この起電流をEBIC(Electron Beam Induced Current)と呼び、SEM像と併せて取得することでpn接合の位置や空乏層の広がりを可...

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  • 【分析事例】Ramanによる金属部材上の異物分析 製品画像

    【分析事例】Ramanによる金属部材上の異物分析

    微小領域を狙った測定が可能

    製造装置や部品に付着した異物は、製造品の不良や装置動作の不具合などに影響する場合があります。異物を適切に分析・評価することで、発生原因を究明し、不具合を改善することができます。 本資料では、金属部材上に付着した異物の成分をRaman分析により評価した結果をご紹介します。 Ramanは約1μmの微小領域の測定が可能であり、狙った箇所の分子構造や結晶構造に関する情報を得られることから、まばらに存在...

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  • 【分析事例】AI技術を用いたCT画像のアーチファクト低減 製品画像

    【分析事例】AI技術を用いたCT画像のアーチファクト低減

    AI技術でCT画像のメタルアーチファクトを低減し画像解析精度を向上!

    X線CT測定ではサンプルの三次元構造を非破壊で観察することが可能です。 しかし、X線ビームを使用する性質上、金属を多く含むサンプルの測定においてはメタルアーチファクトと呼ばれる暗い線状の虚像が発生することがあり、 内部構造の測長や画像解析における妨げとなります。 本資料では試料の材質情報と物理モデルを基にCT画像再構成の最適化を行った事例をご紹介します。 本技術によりアーチファクトを低...

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  • 【分析事例】表面分析による品質管理 製品画像

    【分析事例】表面分析による品質管理

    表面の付着成分(ポリジメチルシロキサンなど)をTOF-SIMSで評価で…

    TOF-SIMS(飛行時間型二次イオン質量分析法)は、最表面の有機物・無機物を感度よく評価可能な手法で、製品の様々な品質管理を行うときの分析手段として利用することができます。例えば、製品保管時の表面付着物の定期的な確認、製品に剥離・変色などの不具合品が発生した際の原因調査、製作条件を変えた前後での着目成分の変化などです。本資料では、付着成分として代表的なポリジメチルシロキサン(PDMS)について、...

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  • 【分析事例】SiC基板表面および内部の不純物濃度測定 製品画像

    【分析事例】SiC基板表面および内部の不純物濃度測定

    ICP-MS, GDMSにより基板表面と内部とを切り分けて分析

    半導体材料に含まれる不純物は、リーク電流の発生やデバイスの早期故障等、製品の品質に影響する場合があります。従って、材料に含まれる不純物量を把握することは、製品の品質向上において重要です。本資料では、パワーデバイス材料として注目されているSiC基板について、基板表面に付着した不純物をICP-MS、基板中の不純物をGDMSで分析した事例をご紹介します。 測定法:ICP-MS・GDMS 製品分野:パ...

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    [SIM]走査イオン顕微鏡法

    高分解能(加速電圧30kV:4nm)でのSIM像観察が可能

    ・高分解能(加速電圧30kV:4nm)でのSIM像観察が可能 ・SEM像に比べてSIM像の方が極表面層の情報が得られる ・金属結晶粒観察が可能(Al, Cu等) ・分解能はSEM像より劣る(SIM:4nm, SEM:0.5nm) ■MST所有装置の特徴 ・試料サイズ最大直径300mmφのJEIDA規格ウエハ対応が可能 ・FIB(集束イオンビーム)加工との組み合わせで連続的な断面SI...

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  • 【分析事例】樹脂のアウトガス(脱ガス)分析 製品画像

    【分析事例】樹脂のアウトガス(脱ガス)分析

    接着剤加熱時に発生する腐食性ガスの分析

    接着剤などの樹脂材料は硬化後であっても、加熱した際にガス成分が発生することがあります。製造装置などに樹脂が含まれる場合、発生したガス成分は装置や製品に悪影響を及ぼすことがあるため、実際の材料を使用する温度や雰囲気でアウトガス成分を把握しておくことが重要です。 本事例ではエポキシ系接着剤を硬化後に加熱し、発生したガスをヘッドスペース- GC/MSにより分析した結果を紹介します。...詳しいデータは...

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