• 紫外線殺菌装置 紫外線ランプ搭載水殺菌装置 ※FOOMA出展 製品画像

    紫外線殺菌装置 紫外線ランプ搭載水殺菌装置 ※FOOMA出展

    PRFOOMA JAPAN2024出展ぜひご来場ください 紫外線(UV)殺…

    東芝ライテックでは食品・飲料の製造をはじめ、様々な用途の水処理で活躍する、 紫外線ランプを搭載した『水殺菌装置』をラインアップしています。 装置の種類が豊富で、様々なシーンに適用可能です。 装置は、幅広いテストを経て、厳格な検証・認定試験にも合格した 信頼性や品質の高いものばかりを取り揃えています。 【UVを使用した水処理のメリット】 ■熱や化学薬品を使わずに殺菌が可能 ■設...

    • MONORAYシリーズ.png
    • 非腐食性PP/PEHDシリーズ.png
    • SSV飲料水シリーズ.png
    • ULTRABARRIERシリーズ.png
    • LUVTシリーズ.png
    • ULTRALOW ULUシリーズ.png
    • TOC VUVシリーズ.png
    • ULTRATRONシリーズ.png
    • 開水路型(SS)シリーズ.png

    メーカー・取り扱い企業: 東芝ライテック株式会社 次世代ソリューション事業本部 UV水殺菌システム部

  • バックターン洗浄機 自動戻りシステム搭載 製品画像

    バックターン洗浄機 自動戻りシステム搭載

    PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現。 移動…

    『バックターン洗浄機』は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法:1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコス...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ヒタカ精機

  • 真空対応5nmフィードバックステージシステム 製品画像

    真空対応5nmフィードバックステージシステム

    真空チャンバー内での位置決め用途に リニアエンコーダ内蔵により5nm分…

    光学式リニアエンコーダに対して、5nm分解能と±10nmの再現性を実現した超高分解能位置決め装置(フィードバックステージシステム)。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』...

    メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社

  • 1nmフィードバックステージシステム(精密位置決め装置) 製品画像

    1nmフィードバックステージシステム(精密位置決め装置

    リニアエンコーダ内蔵により1nm分解能で位置決め 可動範囲最大50mm

    光学式リニアエンコーダに対して、1nm分解能と±2nmの再現性を実現した超精密位置決め装置(フィードバックステージシステム)。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅広い用途で利用されています。 ストロークは『 20...

    メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社

  • 真空対応サブミクロンフィードバックステージシステム 製品画像

    真空対応サブミクロンフィードバックステージシステム

    真空チャンバー内での位置決め用途に サブミクロン分解能で位置決め 可動…

    ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダに対して、サブミクロン分解能(0.1μm or 0.05μm)の再現性を実現した精密位置決め装置(フィードバックステージシステム)。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』...

    メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社

  • 真空対応10nmフィードバックステージシステム 製品画像

    真空対応10nmフィードバックステージシステム

    真空チャンバー内での位置決め用途に リニアエンコーダ内蔵により10nm…

    ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダに対して、10nm分解能と±20nmの再現性を実現した精密位置決め装置(フィードバックステージシステム)。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』...

    メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社

  • 真空対応1nmフィードバックステージシステム 製品画像

    真空対応1nmフィードバックステージシステム

    リニアエンコーダ内蔵により1nm分解能で位置決め 可動範囲最大50mm…

    光学式リニアエンコーダに対して、1nm分解能と±2nmの再現性を実現した超精密位置決め装置(フィードバックステージシステム)。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』...

    メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社

  • 10nmフィードバックステージ FS-1050PX/XY  製品画像

    10nmフィードバックステージ FS-1050PX/XY

    【精密位置決め装置】10nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後…

    光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 50mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、 位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-511との組み...

    メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社

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