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PRコンピューターで抗体モデリング・抗体設計を行うための有用なアプリケーシ…
近年、抗体医薬品開発を効率化するためにインシリコによる合理的な設計が益々重要となっています。 統合計算化学システム MOEは、低分子、ペプチド、抗体、核酸などの広範なスケールの分子の設計に活用でき、創薬モダリティー開発に対応した分子モデリングソフトウェアです。ホモロジーモデリング、タンパク質デザイン、バーチャルファージディスプレイ、エピトープマッピング、分子表面解析、物性推算、化学的修飾候補部位...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社モルシス
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故障解析と大型試料における研究開発のためのナノ形状計測ツール
れるため、無駄な時間と費用の発生を防ぐこともできます。 【研究およびFAラボにおける大型試料用AFMを使ったソリューション】 ■メディア、基盤用の表面ラフネス計測 ■欠陥検査イメージングと解析 ■高解分解能電気特性測定モード ■3D構造解析における側壁計測 ■低ノイズZ検出器を備えた正確なAFM形状イメージング ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わ...
メーカー・取り扱い企業: パーク・システムズ・ジャパン株式会社
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最高レベルのナノスケール解像度で信頼あるデータを提供する原子間力顕微鏡
『Park NX10』は、サンプルのセッティングからイメージング、測定、 解析に至るまですべての段階において簡単に操作することができる 原子間力顕微鏡(AFM)です。 本製品なら、ユーザーはより多くの時間と、より優れたデータを基盤に 革新的な研究に集中することができ...
メーカー・取り扱い企業: パーク・システムズ・ジャパン株式会社
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自動欠陥検査機能、低ノイズ、高スループット!正確な原子間力顕微鏡をご紹…
『Park NX-Wafer』は、欠陥のイメージングと解析を完全自動で行う AFM計測手法により、欠陥検査における生産性を1,000%向上する 原子間力顕微鏡です。 正確でハイスループットのCMPプロファイル測定のための低ノイズ 原子間力プロフ...
メーカー・取り扱い企業: パーク・システムズ・ジャパン株式会社
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欠陥の特定、走査および解析の自動欠陥検査を10倍迅速化する原子間力顕微…
『Park NX-HDM』は、メディア及び基盤用の自動欠陥検査及びサブオング ストローム表面粗さ測定が可能な原子間力顕微鏡です。 広範な光学検査装置と直接リンクし、自動欠陥検査のスループットを 大幅に向上させます。 また、繰り返し測定においてもサブオングストロームの正確な 表面粗さ測定を提供します。 【特長】 ■メディアおよび基板用の自動欠陥検査 ■正確なサブオングスト...
メーカー・取り扱い企業: パーク・システムズ・ジャパン株式会社
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故障解析アプリケーションに適した真空環境スキャニング
『Park NX-Hivac』は、故障解析および環境の影響を受けやすい材料向けの 高真空原子間力顕微鏡(AFM)です。 高濃度ドープの半導体の正確な故障解析が可能。 また、当社のすでに認められた技術を用いることによって、高分解...
メーカー・取り扱い企業: パーク・システムズ・ジャパン株式会社
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