マイクロリアクターULREA（アルリア）シリーズ

PR各種ナノ粒子の超精密合成、大量生産ができます。

ULREA（アルリア）シリーズは2枚のディスク間にできるマイクロメートルオーダーの間隙を反応場、晶析場として応用した湿式法・連続式の反応装置です。 金属、合金、酸化物、複合酸化物、有機顔料など各種ナノ粒子の超精密合成・表面処理と大量生産が容易に実現できます。 その他、マイクロスフェア、ナノスフェアも容易に創製可能です。 【ULREA（アルリア）の特長】 1. 確実なスケールアッ...

メーカー・取り扱い企業： エム・テクニック株式会社

CZウェーハ　成膜加工

2インチから12インチウェーハへの成膜が可能です。

株式会社エナテックのCZウェーハ 成膜加工は、膜種により2インチから450ｍｍウェーハへの成膜が可能です。 酸化膜系：熱酸化、RTO、LP-TEOS、HDP-USG、P-TEOS、PSG、BPSG、BSG、LP-CVD、PE-CVD 窒化膜系： HCD-SiN、DCS-SiN、P-SiN、LP-SiN...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社

1インチ以下～450ｍｍで提供可能　「CZウェーハ」

1インチ以下～４５０ｍｍまで提供が可能です。各種成膜加工、ＦＺウェーハ…

の対応も可能です。 新規作成の場合,最小枚数は10枚程度からのご提供になります。 直径：3inch-12inch SOI層：2-200um程度（抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能） SiO2(酸化膜）層：50nm-2um程度(0.1-10umも対応可能） 支持基板：300-725um程度（抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能） 数量：在庫品の場合は数枚程度から対応可能 ＊基板支給をSOIウ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社

3インチ～12インチまで対応可能　「SOIウェーハ」

3インチ～12インチまで少量対応が可能です。 仕様により高抵抗基板・…

も、基板・デバイス層とも高抵抗FZシリコンを使用したSOIウェーハも対応可能です。 直径：3インチ～12インチ SOI層：2－200um程度（抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能） SiO2(酸化膜）層：0.5－2um程度(0.1-10umも対応可能） 支持基板：300-725um程度（直径によりますが抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能） ＊仕様によりますが新規対応は10枚程度から対応可能...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社