インラインケミカルフィルター「リソガードPOUフィルター」F117971

「リソガード12」は、ArF液浸露光を始めとするハイエンド半導体露光装置向けに開発された、酸性・塩基性・凝縮性有機ガス除去用HEPAフィルタ付高効率ケミカルフィルタシステムです。
キャビネット内にLPSフィルタまたはBSMmaxフィルタ１２枚とHEPAフィルタ６枚を搭載しています。
低濃度環境下においても高い汚染物質除去性能を発揮するため、調清浄環境が要求されるプロセスの実現や光学系部品の汚染による性能低下の防止にも最適です。

【特長】
○長寿命（LPSまたはBSMmaxフィルタ搭載）
○省スペース
○低コスト（Refillプログラムによるフィルターの再生利用）

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「リソガードLPSフィルタ」は、現在もクラス最高レベルにある「リソガードBSMmaxフィルタ」の除去性能を強化し、更なる長寿命化を実現したキャビネット収納タイプのケミカルフィルタです。

さまざまな汚染物質からウエハーやレンズが汚染されないよう保護し、寿命を最大限に保ちます。半導体製造装置はもちろん、超洗浄環境が要求される設備・エリアへ供給する空気中の汚染物質の除去に最適です。

【特長】
■さまざまな汚染物質の除去に使用可能
・酸性ガス（SO2、HCl、HBr）
・塩基性ガス（NH3、NMP、アミン）
・凝縮性有機ガス（HMDSO、TMS）
■リソガードBSMmaxフィルタと比較して、同等サイズでありながら吸着容量アップを実現
■リソガードBSMmaxフィルタからの置き換え可能
■Refill プログラムにより、フィルタの再利用が可能
■グローバルな販売・サービス体制

詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。 （詳細を見る）

「リソガードBSＭmax フィルタ」は、空気中の塩基性・酸性および有機ガスといった汚染物質に対して高い除去性能を発揮するキャビネット収納タイプのケミカルフィルタです。

さまざまな汚染物質からウエハーやレンズが汚染されないよう保護し、寿命を最大限に保ちます。半導体製造装置はもちろん、超清浄環境が要求される設備・エリアへ供給する空気中の汚染物質の除去に最適です。

【特長】
■さまざまな汚染物質の除去に使用可能
・酸性ガス（SO2、HCl、HBr）
・塩基性ガス（NH3、NMP、アミン）
・凝縮性有機ガス（HMDSO、TMS）
■従来の活性炭フィルタと比較して、同等サイズでありながら吸着容量アップを実現
■Refill プログラムにより、フィルタの再利用が可能
■グローバルな販売・サービス体制が整っている

詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。 （詳細を見る）

「リソガードPOU（Point-Of-Use/ 局所）フィルター」 は、塩基性・酸性および有機ガスといった汚染物質除去用の配管接続タイプのケミカルフィルターです。

物理および化学吸着により通過気体中の酸性・塩基性・有機ガスを捕集します。

半導体製造・各種開発実験/ 評価試験、レーザー加工機・光学系機器の保護といった、より高純度のＣＤＡ（クリーンドライエア）、不活性ガス、圧縮空気の供給が必要とされるプロセスでのご使用に好適です。

【主な特長】
■圧縮空気、ＣＤＡ、Ｎ２、その他不活性ガス内の汚染物質除去用として使用可能
■フィルタ本体ケースにはステンレススチール（SUS304）を使用
■物理および化学吸着により通過気体中の酸性・塩基性・有機ガスを捕集
■ガス状の汚染物質除去と併せて、高いパーティクル除去機能を有す

詳しくはダウンロードカタログ（英語版）をご覧いただくか、お問い合わせください。 （詳細を見る）