Wafer ATRにおけるシリコンウェハー表面の高精度分析

シリコンウェハー (Si ウェハー)表面の特性は、材料としての機能性に
大きく影響し、とくにウェハー表面に形成される各種薄膜の化学的評価が
ますます重要となっています。

当資料で紹介する「Wafer ATR」は、いわゆるMIRS法を応用した新たな
アプローチであり、フランス原子力庁電子情報研究所CEA-Letiの
グループとの研究成果を製品化したものです。

【掲載内容】
■はじめに
■Wafer ATR(ウェハーATR)
　・多重内部反射による感度の向上
　・測定時の必要事項
■測定例
■判別分析
■まとめ
■参考文献

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マイクロメートルスケールの厚みをもつ複数の層で構成される積層材料の分析は、重要な分析テーマの 1 つであり、その影響力は大きな広がりを見せています。

このテーマでは、互いに相補的な関係にある顕微赤外分光法と顕微ラマン分光法が最も効果的な分析手法であり、積層材料の分析はもとより、生物医学や製薬、材料科学など幅広い分野に応用されています。

この資料では、
　▶　顕微分光法を積層材料の分析に適用する際に
　　　重要となる空間分解能について
　▶　最新の顕微 FT-IR システムを用いた
　　　ATR マッピング測定に関する報告
などを、わかりやすく解説しています。

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◆JASIS2021出展◆
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