ブルカージャパン株式会社 Wafer ATRにおけるシリコンウェハー表面の高精度分析
- 最終更新日：2024-04-08 09:32:47.0
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【無料プレゼント】MIRS法を応用した新たなアプローチである製品をご紹介
シリコンウェハー (Si ウェハー)表面の特性は、材料としての機能性に
大きく影響し、とくにウェハー表面に形成される各種薄膜の化学的評価が
ますます重要となっています。
当資料で紹介する「Wafer ATR」は、いわゆるMIRS法を応用した新たな
アプローチであり、フランス原子力庁電子情報研究所CEA-Letiの
グループとの研究成果を製品化したものです。
【掲載内容】
■はじめに
■Wafer ATR(ウェハーATR)
・多重内部反射による感度の向上
・測定時の必要事項
■測定例
■判別分析
■まとめ
■参考文献
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報Wafer ATRにおけるシリコンウェハー表面の高精度分析
【製品特長】
<ハイエンドFT-IR：VERTEX シリーズ>
■最大限の柔軟性を持つよう設計
■アップグレードが可能な光学プラットフォームで構成
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| 価格帯 | お問い合わせください |
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| 用途／実績例 | ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログWafer ATRにおけるシリコンウェハー表面の高精度分析
取扱企業Wafer ATRにおけるシリコンウェハー表面の高精度分析
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物質工学、材料科学、環境科学、生命科学などの先端研究分野と、食品、農業、医薬品、化学、石油化学、電気電子等の産業界における製品開発、生産管理、品質管理を対象とした、赤外・近赤外・ラマンの各分光分析装置ならびに周辺機器と、それらに付随するアフターサービスを提供しています。
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