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最終更新日:2024-03-06 10:43:27.0

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研究開発用マルチレンジスペクトロメータ『INVENIO X』

研究開発用マルチレンジスペクトロメータ『INVENIO X』

研究開発用マルチレンジスペクトロメータ『INVENIO X』 製品画像

『INVENIO X』は、次世代のINVENIOプラットフォームを完成させ、
先端研究開発用FT-IRの新たなスタンダードを確立します。

「DigiTect」検出器ならびに「Transit」第2試料室を併用することで、
最大7台の検出器を同時に搭載し、それぞれをソフトウェアから自由に
制御することができます。

これにより、遠赤外から可視/紫外までの幅広い領域をカバーすることが
可能となります。

【特長】
■新設計INTEGRAL干渉計
■5台の検出器に対応する革新的MultiTectテクノロジー
■ユーザーによる交換が可能なDigiTect検出器スロット
■専用検出器搭載、簡易透過/反射測定用Transitチャンネル第2試料室
■24ビットダイナミックレンジ・デュアルチャンネル ADC、
フルデジタル信号処理

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Wafer ATRにおけるシリコンウェハー表面の高精度分析

Wafer ATRにおけるシリコンウェハー表面の高精度分析 製品画像

シリコンウェハー (Si ウェハー)表面の特性は、材料としての機能性に
大きく影響し、とくにウェハー表面に形成される各種薄膜の化学的評価が
ますます重要となっています。

当資料で紹介する「Wafer ATR」は、いわゆるMIRS法を応用した新たな
アプローチであり、フランス原子力庁電子情報研究所CEA-Letiの
グループとの研究成果を製品化したものです。

【掲載内容】
■はじめに
■Wafer ATR(ウェハーATR)
 ・多重内部反射による感度の向上
 ・測定時の必要事項
■測定例
■判別分析
■まとめ
■参考文献

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【技術資料】表面汚染のハイスループットスクリーニング

【技術資料】表面汚染のハイスループットスクリーニング 製品画像

赤外顕微鏡「HYPERION II」は、従来の顕微FT-IR測定に加え、QCLによる
赤外レーザーイメージングに対応します。

当資料では、「FT-IRを用いた精密機械のQA/QCについて」をはじめ、
「関心領域(ROI:Regions Of Interest)の迅速な検出」や「赤外レーザー
イメージングを使用したROIの検出」などを掲載。

QCLとFT-IRとのコンビネーションは、ROIの速やかな検出と、それらの情報に
基づくより正確な定性分析を実現します。

【掲載内容】
■FT-IRを用いた精密機械のQA/QCについて
■関心領域(ROI:Regions Of Interest)の迅速な検出
■FT-IRとQCLのコンビネーションによるメリット
■赤外レーザーイメージングを使用したROIの検出
■FT-IRによる分析の信頼性の向上
■FT-IRとレーザーイメージング:強力なコンビネーション

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取扱会社 研究開発用マルチレンジスペクトロメータ『INVENIO X』

ブルカージャパン株式会社 オプティクス事業部

物質工学、材料科学、環境科学、生命科学などの先端研究分野と、食品、農業、医薬品、化学、石油化学、電気電子等の産業界における製品開発、生産管理、品質管理を対象とした、赤外・近赤外・ラマンの各分光分析装置ならびに周辺機器と、それらに付随するアフターサービスを提供しています。

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