【技術資料】分光エリプソメーター測定原理～偏光とは？　※資料進呈

当資料は、分光エリプソメーターの測定原理についてご紹介しています。
電場および磁場の振動方向が規則的な光のことをいう「偏光」をはじめ、
エリプソメーターの原理、光学干渉についてなどを掲載。

図やグラフと共に分かりやすくご紹介しているので、ぜひ、ご一読ください。

【掲載内容（抜粋）】
■偏光とは
■サンプル表面の変更
■エリプソメーターとは
■エリプソメーターの原理
■ブリュースター角とは

〈　ウェビナーを開催いたします！※詳細　〉
■テーマ：分光エリプソメータ 解析モデル作成手順の説明～初級編～
■開催日時
・4/22(木) 10:00～
・5/13(木) 16:00～
■内容
一般的な構造のサンプルを例にして、解析モデルの作成手順をご説明します。
有効媒質近似モデル、Cauchyモデル、Tauc-Lorentzモデルを使用した解析の説明。
■ご参加について
当社ホームページ（下記リンク）でご確認ください。

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
※デモのご希望の方は、下記お問い合わせボタンより”デモ希望”と記載ください。 （詳細を見る）

『IND-1000』は、押し込み荷重と変位を測定し、薄膜、樹脂、金属などの
様々な物質の硬度や弾性率を測定するナノインデンターです。

AFMにナノインデンターのヘッドを搭載することで、圧痕を直接観察する
ことも可能。

また、高精度顕微鏡による正確な自動位置調整ができ、変位測定、負荷力の
リアルタイムフィードバックコントロールもできます。

【特長】
■ワイドレンジ（最大荷重：10mN～5N）
■高精度 自動XYZステージ
■AFM（オプション）に搭載可能
■高品質ピエゾー拡張要素による発熱対策
■定期校正作業不要
■容易な圧子切り替え

※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 （詳細を見る）

日本セミラボの分光エリプソメーター『GES5E』は、従来の光学測定器では不可能だった薄膜光学特性の測定を非破壊で実現しました。

薄膜、多層膜の膜厚、各層の屈折率（N,K値）波長分散を算出。研究開発からインライン生産品質管理ほかあらゆる分野で活躍しています。

【測定可能な物理特性】
■厚さ光学屈折率
■屈折率の勾配と材料組成
■ドーパント濃度 （詳細を見る）

『分光エリプソメーター』は、非接触・非破壊でエピ膜を含む薄膜の膜厚値、
屈折率、消衰係数を精度良く測定する薄膜評価装置です。

化合物半導体材料の組成比の評価も可能。

主な評価・測定項目は、“薄膜の膜厚値”、“エピ膜厚値”、“屈折率”、
“消衰係数”、“化合物半導体の組成比”、“ドーパント濃度”です。

【主な評価・測定項目】
■薄膜の膜厚値
■エピ膜厚値
■屈折率、消衰係数
■化合物半導体の組成比
■ドーパント濃度

装置の仕様や価格については、お気軽にお問い合わせ下さい。
※デモの実施も可能です。ご希望の方は、下記お問い合わせボタンより”デモ希望”と記載ください。 （詳細を見る）

『SE-2000』は、薄膜の膜厚・屈折率を“非接触”で高精度に測定できる回転補償子型の分光エリプソメータです。
ユーザーフレンドリーな解析ソフトを備えており、解析作業が容易。
深紫外から近赤外領域まで幅色い波長領域の測定に対応しています。

材料の組成比、異方性、Mueller Matrix、偏光解消度、反射率・透過率、ドーパント濃度、
リタデーション(R0、Rth)などに関する検査にも対応しており、幅色い用途で活用可能です。

【特長】
■高精度CCD、高分解能PMT搭載　　　■光学モデルのデータベースが豊富
■多彩な拡張オプション　　　　　　　■販売実績が多数

〈　セミナー詳細　〉
■テーマ：分光エリプソメータ 解析モデル作成手順の説明～初級編～
■開催日時
・4/22(木) 10:00～
・5/13(木) 16:00～
■内容
一般的な構造のサンプルを例にして、解析モデルの作成手順をご説明します。
有効媒質近似モデル、Cauchyモデル、Tauc-Lorentzモデルを使用した解析の説明。

※参加方法は、当社ホームページ（下記リンク）でご確認ください。 （詳細を見る）

- FTIR測定においても、偏光しているので、より多くの情報をとることが可能です。

- レファレンス測定が必要ないので高速に測定が可能です。  （詳細を見る）