ヘキサフルオロエタン C2F6 76-16-4

ヘキサフルオロエタン C2F6 76-16-4

1.絶縁ガス、プラズマエッチング剤、高誘電率冷却剤として使用される。 2.マイクロエレクトロニクス産業において、プラズマエッチングガス、デバイス表面洗浄、光ファイバー製造、低温冷凍に使用される。 ヘキサフルオロエタンは、無...

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トリフルオロメタン　CHF3 75-46-7　6N

トリフルオロメタン　CHF3 75-46-7　6N

臭の非導電性ガスで、ハロサンの理想的な代替品である。 トリフルオロメタンは、超臨界抽出法の溶媒、低温冷媒として使用できる。 また、消火剤、テトラフルオロエチレン製造用原料、電子工業用プラズマ化学エッチング剤、フッ素化合物原料としても使用される。 低温冷媒、消火剤、四フッ化エチレン製造原料として使用される。 低温（-100℃）冷媒、電子工業用プラズマ化学エッチング剤、有機フッ素化合物原料として使用...

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テトラフルオロメタン CF4 75-73-0

テトラフルオロメタン CF4 75-73-0

テトラフルオロメタンは、現在、マイクロエレクトロニクス産業におけるプラズマエッチングガスの最大週間量であり、シリコン、二酸化ケイ素および他の薄膜村材料のエッチングに広く使用され、電子デバイスの表面洗浄、太陽電池の製造、レーザー技術などでは、アプリケーションの数も多い。...

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オクタフルオロプロパン　C3F8　76-19-7

オクタフルオロプロパン　C3F8　76-19-7

半導体産業では、オクタフルオロプロパンはプラズマエッチング材料として使用され、医療では、オクタフルオロプロパンは網膜硝子体手術後の充填剤や超音波造影剤として使用され、オクタフルオロプロパンは冷凍混合物の製造にも使用されている。...

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三フッ化窒素 NF3　7783-54-2

三フッ化窒素 NF3　7783-54-2

NF3の3つの主な用途は、1、高エネルギー化学レーザーガス用のフッ素源として、2、エレクトロニクス産業（IC）におけるエッチング液および洗浄剤として、3、太陽光発電産業である。 NF3のその他の用途：パーフルオロアンモニウム塩の製造、電球の寿命と輝度を高める充填剤ガスとしての使用、鉱業やロケット技術における酸化剤とし...

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六フッ化硫黄 SF6 2551-62-4

六フッ化硫黄 SF6 2551-62-4

電子グレードの高純度六フッ化硫黄は、理想的な電子エッチング剤であり、マイクロエレクトロニクス技術の分野で広く使用されている。 冷凍業界では冷却剤として使用され、冷却範囲は-45℃～0℃である。 電気産業では、その高い絶縁耐力と優れた消弧特性を利用して、...

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フルオロメタン　CH3F　593-53-3

フルオロメタン　CH3F　593-53-3

Si3N4の異方性エッチングガスとして、SiO2やSiに対する選択比が高く、3次元NAND、DRAM、Fin-FET半導体デバイス製造の前工程微細構造エッチングプロセスで注目されている...

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ペンタフルオロホスホラン　F5P　7647-19-0

ペンタフルオロホスホラン　F5P　7647-19-0

ペンタフルオロホスホランは、一般的に使用される半導体エッチングガスで、シリコン系材料のエッチングや表面処理によく使用されます。 材料表面の有害な酸化物や有機汚染物質を迅速に除去し、半導体表面の化学的・物理的特性を変化させることができる。...

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オクタフルオロシクロブタン　115-25-3

オクタフルオロシクロブタン　115-25-3

主な用途は、高電圧絶縁、大規模集積回路エッチング、冷媒、エアゾール、電子クリーナー、スプレー、ヒートポンプ作動液など。...

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